[发明专利]玻璃基板均匀薄化装置无效
申请号: | 200610140949.7 | 申请日: | 2006-10-17 |
公开(公告)号: | CN101164945A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 谢育和 | 申请(专利权)人: | 三福化工股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 均匀 化装 | ||
1.一种玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其包含:
一蚀刻循环槽,用以容纳与更新玻璃蚀刻液;
一基板固定机构,用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内;以及
一柏努利振荡机构,其是连接该基板固定机构,以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作振荡动作。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的的振荡动作是为上下、左右、圆周或上述任意组合的动作。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的柏努利振荡机构包含有一振荡方向改变机构与一振荡驱动马达。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的振荡动作是为间歇性。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的基板固定机构是由一基板储槽与一储槽连结机构所组成。
6.根据权利要求5所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的该些玻璃基板是平行储放至该基板储槽内,前述的振荡动作是平行于该些玻璃基板。
7.根据权利要求1所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的蚀刻循环槽是设有一向上流的循环机构。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的蚀刻循环槽是连接有一循环管路进流与至少一循环管路回流,该循环管路进流是设于该蚀刻循环槽的底部中央。
9.根据权利要求7所述的玻璃基板均匀薄化装置,其特征在于其中所述的蚀刻循环槽是设有一层流分配板。
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