[发明专利]玻璃基板均匀薄化装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种使玻璃基板均匀薄化的蚀刻技术，特别是涉及一种可在槽内密集排列玻璃基板并达到更均匀的表面蚀刻功效，还可减少氢氟酸(HF)的气化量，避免氢氟酸的气体(即氟化氢)向外发散、蒸发与气化，导致腐蚀机器金属构件问题，并避免其毒性对人体危害的高密度浸蚀的玻璃基板均匀薄化装置。

背景技术

以往的平面显示器会使用到玻璃基板，在制程中均匀薄化玻璃基板的技术是相当重要的，已知可行的方法皆是以湿式蚀刻达成。

如中国台湾专利公告第543113号“TFT LCD用玻璃基板的自动蚀刻装置及蚀刻方法”所揭示的技术，其是在蚀刻槽内部设置有一多孔性起泡装置，并在起泡装置的上侧设有一击板装置，通入许多氮气(N₂)气泡以搅动氢氟酸(HF)蚀刻液，这种方式受到流体力学物理现象影响，无法产生理想流场，且会有HF气化量增加的问题。因此，在蚀刻时为了避免具有毒性的HF气体向外散发而安装了气体帷幕(Air curtain)装置，虽然有气体帷幕(Aircurtain)装置隔绝外面环境，但是仍然无法解决机器金属构件被HF腐蚀问题，以及造成严重人体危害、工安与环保问题。

此外，该氮气气体起泡装置(N₂ buble)及导流装置仅考虑流畅特性，尚未考虑到玻璃基板被HF蚀刻后，是否有足够及完全的流体剪力及惯性力，可移除玻璃基板表面残留及析出的氟硅酸根颗粒，此颗粒残留在玻璃基板表面，不只会影响蚀刻速度，也会影响蚀刻的均匀性。

由此可见，上述现有的玻璃基板均匀薄化装置在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的玻璃基板均匀薄化装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

有鉴于上述现有的玻璃基板均匀薄化装置存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及其专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的玻璃基板均匀薄化装置，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明

发明内容

本发明的主要目的在于，克服现有的玻璃基板均匀薄化装置存在的缺陷，而提供一种新型结构的玻璃基板均匀薄化装置，所要解决的技术问题是使其能移除玻璃基板表面残留与析出的氟硅酸根颗粒，可在槽内密集排列玻璃基板并且达到更均匀的表面蚀刻的功效。此外，可以减少氢氟酸(HF)的气化量，避免氢氟酸的气体(即氟化氢)向外发散、蒸发与气化，导致腐蚀机器金属构件的问题并避免其毒性对人体的危害，从而更加适于实用。

本发明另一目的在于，提供一种玻璃基板均匀薄化装置，所要解决的技术问题是使其能够调整到最佳的柏努利振荡动作，以均匀蚀刻每一片玻璃基板的表面，从而更加适于实用。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。本发明揭示一种玻璃基板均匀薄化装置，该玻璃基板均匀薄化装置包含一蚀刻循环槽、一基板固定机构以及一柏努利振荡机构(Bernoulli’s oscillatorymechanism)。该蚀刻循环槽是用以容纳与更新玻璃蚀刻液。该基板固定机构是用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内。该柏努利振荡机构是连接该基板固定机构，以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作振荡动作。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，前述的振荡动作为上下、左右、圆周或上述任意组合的动作。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该柏努利振荡机构是包含有一振荡方向改变机构与一振荡驱动马达。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，前述的振荡动作是为间歇性。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该基板固定机构是由一基板储槽与一储槽连结机构所组成。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该些玻璃基板是平行储放至该基板储槽内，前述的振荡动作是平行于该些玻璃基板。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该蚀刻循环槽是设有一向上流的循环机构。

在前述的玻璃基板均匀薄化装置中，该蚀刻循环槽是连接有一循环管路进流与至少一循环管路回流，该循环管路进流是设于该蚀刻循环槽的底部中央。