[发明专利]电子元件图纹缺陷的修补方法

权利要求书

1.一种电子元件图纹缺陷的修补方法，包括：

提供基板具有图案化结构于其上，其中该图案化结构具有至少一个缺陷，且该图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域；

施以第一表面处理步骤于该缺陷区域，使该缺陷区域的表面性质不同于该主要区域；

施以缺陷修补步骤；以及

施以第二表面处理步骤于该缺陷区域，使该缺陷区域的表面性质与该主要区域的表面性质相同。

2.如权利要求1所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该图案化结构是显示器彩色滤光片结构、显示器TFTs矩阵结构或印刷电路结构。

3.如权利要求1所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中于施以第一表面处理步骤之前，还包括施以去除该缺陷区域上残余物质的步骤。

4.如权利要求3所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该去除该缺陷区域上残余物质的步骤包括化学研磨、湿式蚀刻、光蚀刻、激光烧除、等离子移除及离子束移除步骤。

5.如权利要求1所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该第一表面处理步骤包括物理性表面处理步骤或化学性表面处理步骤。

6.如权利要求5所述电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该物理性表面处理步骤包括常压等离子处理步骤。

7.如权利要求5所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该化学性表面处理步骤包括涂布表面修饰剂。

8.如权利要求1所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该缺陷修补步骤包括喷墨步骤。

9.如权利要求8所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中于该缺陷修补步骤之后，还包括施以平坦化处理步骤以移除受修补之缺陷区域表面厚度不均匀。

10.如权利要求9所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该平坦化处理步骤包括化学研磨、湿式蚀刻、光蚀刻、激光烧除、等离子移除及离子束移除步骤。

11.一种电子元件图纹缺陷的修补方法，包括：

提供基板具有显示器彩色滤光片结构、显示器TFTs矩阵结构或印刷电路结构于其上，其中上述的结构具有像素缺陷，且该结构对应主要区域及该像素缺陷对应像素缺陷区域；

施以去除该像素缺陷区域上残余物质的步骤；

施以第一表面处理步骤于该像素缺陷区域，使该像素缺陷区域的表面性质不同于该主要区域；

施以像素缺陷修补步骤；

施以平坦化处理步骤以移除受修补的缺陷区域表面厚度不均匀；以及

施以第二表面处理步骤于该像素缺陷区域，使该缺陷区域的表面性质与该主要区域的表面性质相同。

12.如权利要求11所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该去除该缺陷区域上残余物质的步骤包括化学研磨、湿式蚀刻、光蚀刻、激光烧除、等离子移除及离子束移除步骤。

13.如权利要求11所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该第一表面处理步骤包括物理性表面处理步骤或化学性表面处理步骤。

14.如权利要求13所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该物理性表面处理步骤包括常压等离子处理步骤。

15.如权利要求13所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该化学性表面处理步骤包括涂布表面修饰剂。

16.如权利要求11所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该像素缺陷修补步骤包括喷墨步骤。

17.如权利要求11所述的电子元件图纹缺陷的修补方法，其中该平坦化处理步骤包括化学研磨、湿式蚀刻、光蚀刻、激光烧除、等离子移除及离子束移除步骤。