[发明专利]电子元件图纹缺陷的修补方法有效
申请号: | 200610143590.9 | 申请日: | 2006-11-09 |
公开(公告)号: | CN101178451A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 郑兆凯;黄介一;邱琬雯;林春宏;张加强 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B41J2/01;G03F1/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电子元件 缺陷 修补 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种电子元件的制造方法,特别是涉及一种电子元件图纹缺陷的修补方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)前段工艺所需求的材料,主要包括彩色滤光膜(Color filter,简称CF)、玻璃基板、驱动电路(driver IC)、背光模块及液晶材料等。尤其,在TFT-LCD的制造成本中,材料成本占60~70%的比重,其中又以彩色滤光膜所占整体TFT-LCD面板材料成本比重最高,几乎达到1/4的比例。在TFT-LCD应用产品多元化及产量逐渐扩大之际,对彩色滤光膜的需求也逐步攀升。大体而言,平均约有2成以上的彩色滤光膜有修补的需求。因此,如何达到高品质的彩色滤光膜制作,以及发展相关的修补技术,提高TFT-LCD成品率。
为了解决制造彩色滤光膜的问题,彩色滤光膜喷墨法系统已被提出。然而,传统喷墨法制造彩色滤光膜需要精准的平台去控制喷墨液滴喷至事先决定的像素图案(pattern)位置,且不可溢散至相邻的像素色块,以避免发生混色。再者,彩色滤光膜所能打印的样式与分辨率必须配合喷墨头喷嘴的间距而设计,增加了工艺的复杂度。
传统彩色滤光膜的制作方法是在玻璃基板上制作出许多红、绿、蓝的图素(Dot),每一组图素对应液晶显示器上的一个像素(Pixel)。其主要工艺包括颜料分散法,首先在玻璃基板上依次以溅射、光刻及蚀刻三道工艺制作防止遮光图案混色,便是黑色矩阵(Black Matrix)。接着,以光刻方式依次分别制作出红、绿、蓝(RGB)三原色的彩色滤光膜层(滤光层的形状、尺寸、配置,依不同用途的液晶显示器而异),最后溅射上透明导电膜(ITO)作为显示器的电极。
然而,在彩色滤光膜的制造过程中常常伴随缺陷形成。传统的缺陷修补方法,包括以激光烧除(1aser burning)的方式,去除颜色混合区域。或者将附着的颗粒移除,但不能对于因表面处理不均匀产生的白孔区域进行颜色的修补。
美国专利第US 5,714,195号,揭示一种彩色滤光膜的修补方法。利用喷墨方法对于彩色滤光膜有缺陷的地方,例如缺色(color omission)或色彩不均(color irregularity),以喷墨头喷涂彩色物质到缺陷处,以达到修补的目的。图1为显示传统喷墨法修补彩色滤光膜的流程图。传统彩色滤光膜的修补方法包括于制作彩色滤光膜(S10)步骤后,检测制作完成的彩色滤光膜,若有彩色图案结构缺陷,则进行修补步骤。修复缺陷的方法包括方法(a)以具有测试及修补功能的装置,于检测出缺陷即进行修复彩色滤光膜(S30),于测试完成时即完成无缺陷的彩色滤光膜(S40)。或者,通过方法(b)主要先进行测试彩色滤光膜(S20),若良好完成无缺陷的彩色滤光膜(S40)。若检测出不良缺陷,则修补彩色滤光膜(S30),直至无缺陷的彩色滤光膜(S40)。
喷墨技术特点主要在于直接将红、绿、蓝三原色喷在像素上,因此修补工艺上比传统干膜式方式简单,批量生产操作成本低、提高生产速度、降低生产设备成本。
美国专利第US 6,479,120及US 6,228,464专利揭示一种修补网版印刷(screen printing)电路图案缺陷的方法。请参阅图2,基板10上具有网版印刷的电路图案12,其中电路图案具有缺陷(断线),可通过一个透明的缺陷修复片20,其上有供修复的图案24,覆盖黏着在基板10上且遮住缺陷位置,再经由热压50或印刷方法将缺陷修复带转印,并经照光加热处理,使溶剂及黏着剂挥发,完成修补的目的。
然而,现有修补电子元件图纹缺陷的方法,并未针对基板上图纹的材料与修复材料之间的表面性质考虑,并且未针对修复后的部位处理,因而影响后续的工艺,尤其是应用在高分辨率显示器面板时,上述问题因现有技术工艺繁复而导致成本上升且成品率下降。
发明内容
鉴此,本发明的目的在于提供一种电子元件图案结构缺陷检测、修复及填补方法,提高元件的性能,进而提高制造成品率与降低制造成本。
为达上述目的,本发明提供一种电子元件图纹缺陷的修补方法,包括:提供基板具有图案化结构于其上,其中图案化结构具有至少一个缺陷,且图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域;施以第一表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质不同于主要区域;施以缺陷修补步骤;以及施以第二表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质与主要区域的表面性质相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610143590.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光驱机芯保护盖
- 下一篇:整体式真空循环脱气炉真空室的打结方法