[发明专利]玻璃基板重复使用的方法

权利要求书

1.一种玻璃基板重复使用的方法，用来去除该玻璃基板上至少一贴附层，该方法包括：

(A)提供至少一玻璃基板；

(B)提供一处理溶液接触玻璃基板以去除贴附层，该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液；以及

(C)提供一硫酸溶液处理玻璃基板。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基板为形成彩色滤光片的玻璃基板，且所述贴附层为氧化铟锡层、光学间隔材、多象限垂直配向层和/或内平面转换层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于30℃至75℃，且所述酸性溶液包括硝酸溶液、卤化氢溶液、或硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液，该酸性溶液的pH值小于1。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至75℃，所述卤化氢溶液选自氟化氢溶液、氯化氢溶液、溴化氢溶液以及碘化氢溶液中的一种或一种以上组成的混合液。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述硫酸溶液的重量百分浓度介于98％与100％之间，且该硫酸溶液的温度介于30℃至65℃。

6.根据权利要求1所述的方法，该方法进一步包括步骤：

(D)使用一再生溶液接触玻璃基板，去除玻璃基板上至少一涂布层；所述再生溶液的pH值在12至16之间，该再生溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至85℃；所述涂布层为保护膜、彩色层和/或黑色矩阵层。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述再生溶液的pH值在14至15.5之间，该再生溶液接触玻璃基板的温度介于60℃至75℃，并且包括盐酸羟胺有机溶液。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述盐酸羟胺有机溶液的重量百分浓度在2％至50％之间。

9.根据权利要求6、7或8所述的方法，其中所述再生溶液更包括有碱金属氢氧化物水溶液与有机溶剂。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述再生溶液更包括丙二醇甲醚或丙二醇甲醚酯，且所述碱金属氢氧化物水溶液的重量百分浓度在5％至40％之间，其为氢氧化钾或氢氧化钠或是两者的混合液。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述有机溶剂包括三乙醇胺。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂更包括N-甲基吡咯酮、二甲基亚砜、单乙醇胺中的任意一种或者一种以上组成的混合物。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述有机溶剂更包括二次乙基二醇单丁醚。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的方式为浸泡、喷洒或刷洗。

15.一种玻璃基板重复使用的方法，用来去除该玻璃基板上至少一贴附层和至少一涂布层，该方法包括：

(a)提供至少一玻璃基板；

(b)提供一碱性再生溶液处理玻璃基板以去除至少一涂布层；以及

(c)提供一处理溶液接触玻璃基板以去除贴附层，该处理溶液包括：至少一氯化铁溶液、或者氯化铁溶液与至少一酸性溶液的混合液。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述玻璃基板为形成彩色滤光片的玻璃基板，且所述贴附层为氧化铟锡层、光学间隔材、多象限垂直配向层和/或内平面转换层，所述涂布层为保护膜或彩色层。

17.根据权利要求15所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于30℃至75℃，且所述酸性溶液包括硝酸溶液、卤化氢溶液、或是硝酸溶液与卤化氢溶液的混合液，该酸性溶液的pH值小于1。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述处理溶液接触玻璃基板的温度介于40℃至75℃，所述卤化氢溶液选自氟化氢溶液、氯化氢溶液、溴化氢溶液以及碘化氢溶液中的一种或一种以上组成的混合液。

19.根据权利要求15所述的方法，该方法进一步包括步骤：

(d)提供一硫酸溶液处理玻璃基板，该硫酸溶液的重量百分浓度介于98％与100％之间，且该硫酸溶液的温度介于30℃至65℃。