[发明专利]彩色滤光片的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体工艺方法，尤其涉及一种彩色滤光片的制造方法。

背景技术

现今社会多媒体技术相当发达，多半受惠于半导体元件或显示装置的进步。就显示器而言，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器已逐渐成为市场的主流。

液晶显示器主要是由显示面板与背光模块所构成，其中显示面板包括有源阵列显示基板与彩色滤光片。彩色滤光片是用以将背光模块所发出的光进行过滤，而使液晶显示器具有全彩的功能。

彩色滤光片通常可分为单一膜层的滤光片与具有复合层结构的滤光片。一般来说，具有复合层结构的滤光片是藉由将不同折射率的膜层交错叠合而成，以达成对特定波长过滤的目的。通常，复合层的光学特性若要符合所需，其制作的温度通常在摄氏150度以上。然而，在高温环境下形成的复合层，其结构致密，难以蚀刻，而复合层的厚度又高达8000(800nm)，其蚀刻速率过低，往往使得蚀刻工艺耗费过多的时间，严重影响产能。

发明内容

本发明的目的是提供一种彩色滤光片的制造方法，其做为滤光片的复合层的结构致密，具有所需的光学特性，且易于蚀刻，可以有效地缩短蚀刻时间。

本发明提出一种彩色滤光片的制造方法，此方法是先在较低的温度下形成一复合层，然后，再于较高的温度下进行一退火工艺。

依照本发明实施例所述，上述较低的温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。上述较高的温度为摄氏300度至900度，或摄氏300度至400度。

依照本发明实施例所述，上述退火工艺所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成的族群其中之一。退火工艺的时间为10分钟至4小时。

依照本发明实施例所述，上述复合层包括由氧化钛层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层、五氧化二钽层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成的堆叠层。

本发明又提出一种彩色滤光片的制造方法，此方法是在基板上形成结构松散的复合层，然后，图案化结构松散的复合层，以形成一图案化复合层，之后，再进行一处理步骤，以使图案化第一复合层的结构致密化，形成一滤光片。

依照本发明实施例所述，上述结构松散的复合层是在一较低的温度下形成；而处理步骤是在一较高的温度下进行。

依照本发明实施例所述，上述较低的温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。上述较高的温度为摄氏300度至900度，或是摄氏300度至400度。

依照本发明实施例所述，上述处理步骤包括一退火工艺。退火工艺所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成的族群其中之一。退火工艺的时间为10分钟至4小时。

依照本发明实施例所述，上述结构松散的复合层包括氧化钛层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层、五氧化二钽层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成的堆叠层。

本发明再提出一种彩色滤光片的制造方法。此方法是在基板上形成结构松散的第一复合层，并将其图案化，以形成一图案化第一复合层。之后，在依照上述方法在基板上形成图案化第二复合层与图案化第三复合层。之后，进行一处理步骤，以使图案化第一复合层、图案化第二复合层以及图案化第三复合层的结构致密化，以分别形成一第一滤光片、一第二滤光片与一第三滤光片。

依照本发明实施例所述，上述结构松散的第一复合层、第二复合层与第三复合层是在一较低的温度下形成；而处理步骤是在一较高的温度下进行。

依照本发明实施例所述，上述较低的温度高于摄氏0度且低于摄氏150度。较高的温度为摄氏300度至900度或是摄氏300度至400度。

依照本发明实施例所述，上述处理步骤包括一退火工艺。退火工艺所使用的气体选自于氮气、氮气及氢气、氨气、氨气及氢气所组成的族群其中之一。退火工艺的时间为10分钟至4小时。

依照本发明实施例所述，上述结构松散的第一复合层、结构松散的第二复合层与结构松散的第三复合层分别为红色膜层、绿色膜层或蓝色膜层其中之一。

依照本发明实施例所述，上述结构松散的第一复合层、结构松散的第二复合层以及结构松散的第三复合层分别包括氧化钛层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层、五氧化二钽层与氧化硅层交错堆叠而成的堆叠层或是硫化锌层与氟化镁层交错堆叠而成的堆叠层。