[发明专利]用于化学气相沉积装置的保温器有效
| 申请号： | 200610148810.7 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101210315A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 任瑞龙;何华忠;俞小丰;刘培芳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 化学 沉积 装置 保温 | ||
1.一种用于化学气相沉积装置的保温器，所述保温器包括保温片和连接柱，所述保温片包括第一保温片、第二保温片......以及第n保温片，所述n为自然数，所述第一保温片为顶端保温片，所述第一保温片、第二保温片......第n保温片沿垂直于保温片表面方向堆叠排列，相邻保温片之间具有间隔，并且相邻保温片通过连接柱相连接，其特征在于，围绕第一保温片边缘设置有定位突起。
2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述围绕第一保温片边缘的定位突起呈连续的环状，所述定位突起沿第一保温片径向宽度范围为1至4mm，所述定位突起的高度为2至10mm。
3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述围绕第一保温片边缘的定位突起呈分立的均匀分布的环状，所述分立的定位突起呈四方体形或者山脊形，所述定位突起沿第一保温片径向宽度为1至4mm，所述定位突起的高度为2至10mm。
4.根据权利要求1至3任一项所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述保温片、连接柱及定位突起均为石英。
5.根据权利要求4所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述相邻保温片之间的间隔为10至50mm。
6.一种用于化学气相沉积装置的保温器，所述保温器包括保温片和连接柱，所述保温片包括第一保温片、第二保温片......以及第n保温片，所述n为自然数，所述第一保温片为顶端保温片，所述第一保温片、第二保温片......第n保温片沿垂直于保温片表面方向堆叠排列，相邻保温片之间具有间隔，并且相邻保温片通过连接柱相连接，其特征在于，围绕第一保温片边缘设置有定位突起，所述第一保温片上放置有碳化硅片且通过定位突起定位。
7.根据权利要求6所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述围绕第一保温片边缘的定位突起呈连续的环状，所述定位突起沿第一保温片径向宽度为1至4mm，所述定位突起的高度为2至10mm。
8.根据权利要求6所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述围绕第一保温片边缘的定位突起呈分立的均匀分布的环状，所述分立的定位突起呈四方体形或者山脊形，所述定位突起沿第一保温片径向厚度为1至4mm，所述定位突起的高度为2至10mm。
9.根据权利要求6至8任一项所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述保温片、连接柱及定位突起均为石英。
10.根据权利要求9所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述相邻保温片之间的间隔为10至50mm。
11.根据权利要求10所述的用于化学气相沉积装置的保温器，其特征在于：所述碳化硅片厚度与定位突起相同，所述定位突起以及碳化硅片沿第一保温片径向宽度之和与第一保温片直径相同。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
