[发明专利]一种质谱质量测量误差的预测方法

权利要求书

1.一种质谱质量测量误差的预测方法，包括如下步骤：

步骤1)设置含有待定参数的测量系统误差分布函数；

步骤2)计算物质的测量质量值和理论质量值，并计算这些物质的测量实际误差；

步骤3)得到的物质测量实际误差减去所述的含参数的测量系统误差，得到物质的含参数的测量随机误差；

步骤4)计算所述含参数的测量随机误差的目标函数，通过使该目标函数取得最值而得到所述测量系统误差分布函数中待定参数的取值。

2.根据权利要求1所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，所述步骤2)中计算物质的测量质量值和理论质量值时，采取的方式包括：(1)在质谱中选择谱峰，计算谱峰对应的离子的测量质量值，通过预测谱峰对应离子的分子式得到离子的理论质量值；或(2)得到一对谱峰所对应的两个离子的质量之差或者质量之和的测量及理论质量值。

3.根据权利要求1或2所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，还包括步骤5)确定系统误差分布函数中待定参数的取值后，重复步骤1)到步骤4)，迭代计算得到所述待定参数的取值。

4.根据权利要求3所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，当两次连续的迭代过程所计算得到的待定参数之差在限定的范围之内，则停止迭代。

5.根据权利要求1所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，步骤4)中的所述目标函数是所述含参数的测量随机误差的平方和，所述最值是最小值。

6.根据权利要求5所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，步骤4)中采用最小二乘法使所述平方和最小。

7.根据权利要求1所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，步骤4)中的所述目标函数是所述含参数的测量随机误差的绝对值之和，所述最值是最小值。

8.一种质谱质量测量误差的预测方法，包括如下步骤：

步骤一，将物质的实际测量误差分解为系统误差与随机误差；

步骤二，在质谱中计算样本点的测量误差，样本点包括质谱中的离子、离子之和或者离子之差；

步骤三，通过使随机误差的目标函数取最值来确定系统误差分布函数的参数取值。

9.根据权利要求8所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，所述在质谱中计算样本点的测量误差是通过预测离子分子式的方式得到。

10.根据权利要求8或9所述质谱质量测量误差的预测方法，其特征是，在步骤三中所述目标函数是指平方和或者绝对值之和，所述最值是最小值。