[实用新型]光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置无效

专利信息
申请号: 200620161666.6 申请日: 2006-12-27
公开(公告)号: CN200992589Y 公开(公告)日: 2007-12-19
发明(设计)人: 钟毅;钟鸣 申请(专利权)人: 钟毅
主分类号: C30B7/00 分类号: C30B7/00
代理公司: 济南圣达专利商标事务所 代理人: 张勇
地址: 250021山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 光浴法 培育 质量 高氘量 dkdp 晶体 装置
【权利要求书】:

1、一种光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,它有外壳(1),其内设有晶体生成容器,其特征是:所述晶体生成容器为透明容器(2),在其外壁上设有反射层(3),其底部则设有光加热装置,该装置与温度控制装置连接。

2、根据权利要求1所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述光加热装置为设置在透明容器(2)底部的若干个光源(4)。

3、根据权利要求2所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述光源(4)为可见光源。

4、根据权利要求3所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述可见光源为白炽灯。

5、根据权利要求2所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述光源(4)为不可见光源。

6、根据权利要求5所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述不可见光源为红外线灯。

7、根据权利要求1所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述反射层(3)涂附在透明容器(2)的外壁。

8、根据权利要求1所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述反射层(3)为与透明容器(2)紧密贴附在一起的金属反射膜。

9、根据权利要求1或7或8所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述反射层(3)与外壳(1)间设有保温层(5)。

10、根据权利要求1所述的光浴法培育高质量高氘量DKDP晶体的装置,其特征是:所述温度控制装置包括温度传感器(6)和单片机控制器,温度传感器(6)设置在透明容器(2)内部,单片机则与光加热装置连接。

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