[发明专利]由多孔基质和金属或金属氧化物纳米微粒组成的复合材料有效
申请号: | 200680006000.6 | 申请日: | 2006-02-16 |
公开(公告)号: | CN101128621A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 罗兰·伯努瓦;莫娜·特雷盖-德勒皮埃尔;玛丽-路易斯·萨布吉 | 申请(专利权)人: | 国家科研中心;法国国立奥尔良大学 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C18/14;C23C16/04 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王达佐;韩克飞 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 基质 金属 氧化物 纳米 微粒 组成 复合材料 | ||
1.制备复合材料的方法,所述方法包括用金属纳米微粒或金属氧化物纳米微粒的一种或多种前体溶液浸渍微孔或中孔固体材料,然后在所述形成基质的材料中还原所述前体,所述方法的特征在于,在饱和蒸汽压及所述前体溶液的回流下进行浸渍,并且通过辐射分解进行所述还原。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述前体溶液还含有氧化性自由基拦截剂。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,“拦截剂”/“前体金属盐”浓度之比不小于约103至104。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,“拦截剂”/“前体金属盐”浓度之比小于或等于约10-2至10-1。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料选自二氧化硅、氧化铝、沸石、诸如氧化锆、氧化钛的金属氧化物及呈现中孔性的聚合物。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料中孔在纳米尺度的分布是无序的。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述微孔或中孔材料中孔在纳米尺度的分布是有序且任意定向的。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述纳米微粒前体选自下列金属的化合物:Bi、Au、Ag、Ti、Mg、Al、Be、Mn、Zn、Cr、Cd、Co、Ni、Mo、Sn和Pb。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述纳米微粒前体化合物为无机盐、有机盐或有机金属化合物。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述无机盐为硫酸盐或高氯酸盐。
11.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述有机盐为甲酸盐或新癸酸盐。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述前体为新癸酸铋。
13.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述前体化合物为选自二苯基镁、二苯基铍、三异丁基铝、二环戊二烯基铬、二环戊二烯基钛、二环戊二烯基镁、四羰基钴、四羰基镍、六羰基钼、二丙基镉、四烯丙基锌及四丙基铅的有机金属化合物。
14.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述氧化性自由基拦截剂为伯醇、仲醇及甲酸碱金属盐。
15.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用伽玛射线源、X-射线源或加速器源进行所述辐射分解还原。
16.由基质和金属或金属氧化物的纳米微粒组成的复合材料,所述基质由平均孔隙尺寸小于1nm的微孔固体材料或平均孔隙尺寸为1nm至100nm的中孔固体材料构成,所述材料的特征在于,所述基质材料为无序的或有序且任意定向的,并且:
·当所述基质材料为有序且任意定向的时,所述纳米微粒的大小是单分散的,且占所述基质材料所有孔隙体积的50%至67%;以及
·当所述基质材料为无序的时,所述纳米微粒的大小为单分散的,或与所述基质材料的孔隙大小相同,且占所述基质材料孔隙初始体积的至少50%。
17.根据权利要求16所述的复合材料,其特征在于,所述固体基质由选自二氧化硅、氧化铝、沸石、诸如氧化锆、氧化钛的金属氧化物及呈现中孔性的聚合物的材料构成。
18.根据权利要求16所述的复合材料,其特征在于,所述纳米微粒由下列金属:Bi、Au、Ag、Ti、Mg、Al、Be、Mn、Zn、Cr、Cd、Co、Ni、Mo、Sn、Pb或所述金属之一的氧化物构成。
19.根据权利要求16所述的复合材料,其特征在于,所述基质材料为中孔的并且所述纳米微粒由铋构成。
20.根据权利要求16所述的复合材料,其特征在于,所述基质的微孔性为有序且定向的,为圆柱体通道的形式,并且所述纳米微粒彼此接触,与所述纳米微粒间的真正空间相应的残余孔隙率为33%。
21.权利要求19所述的复合材料作为热电材料的用途。
22.包含权利要求19所述的复合材料作为活性材料的低温发生器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家科研中心;法国国立奥尔良大学,未经国家科研中心;法国国立奥尔良大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680006000.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的