[发明专利]分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具

权利要求书

1.一种分析装置，其特征在于，具备：

用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和

具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，

该分析装置以下述方式构成：在所述载置台上载置清洁用具，在由所述清洁用具的按压部按压所述测光机构中的光的出射面或入射面的状态下，对所述出射面或所述入射面进行清洁。

2.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以能够利用所述按压部对所述出射面或所述入射面进行擦拭的方式构成。

3.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述测光机构能够相对于所述载置台进行相对的上下移动。

4.如权利要求3所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以在所述载置部载置所述清洁用具、对所述出射面或所述入射面进行清洁的方式构成。

5.如权利要求4所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以下述方式构成：在将所述清洁用具载置于所述载置部的状态下，使所述测光机构位于与所述载置部对应的位置时，所述清洁用具的按压部对所述出射面或所述入射面进行按压。

6.如权利要求5所述的分析装置，其特征在于，所述载置台具备沿该载置台的移动方向延伸并具有凹部的导向件，

所述测光机构具备与所述导向件接触的接触部，并且

所述接触部以在所述载置部位于能够对所述试剂座进行测光的位置时进入所述凹部的方式构成。

7.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以下述方式构成：在将含浸有清洗液的所述按压部按压在所述出射面或所述入射面上的状态下，使所述出射面或所述入射面升温。

8.一种分析装置中的测光机构的清洁方法，用于在分析装置中，对所述测光机构的光出射面或入射面进行清洁，其特征在于，

所述分析装置具备：用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和

具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，

所述清洁方法包括：

在所述清洁用具的按压部含浸有清洗液的状态下，利用所述按压部对所述出射面或所述入射面进行擦拭的第一步骤，并且还包括下述第二和第三步骤中的至少一个步骤，

第二步骤：在所述第一步骤之前进行，并且在将含浸有清洗液的所述按压部按压在所述出射面或所述入射面上的状态下，对所述出射而或所述入射面进行加热，

第三步骤：在所述第一步骤之后进行，并且利用已知反射率的基准板，确认所述出射面或所述入射面的污渍的程度。

9.一种清洁用具，用于在分析装置中，对测光机构中的光出射面或入射面进行清洁，其特征在于，

所述分析装置具备：用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和

具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，

所述清洁用具具备：基材；和支撑该基材的一个或多个按压部。

10.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述基材采用与用于支撑所述分析用具中的所述试剂座的基材实质上相同的形状，

所述按压部至少存在于与所述分析用具中的试剂座对应的位置。

11.如权利要求10所述的清洁用具，其特征在于，所述一个或多个按压部具有与所述试剂座同样的俯视形状，并且形成于与所述试剂座对应的位置。

12.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部比所述分析用具的试剂座的厚度大。

13.如权利要求12所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部的厚度形成为所述试剂座的厚度的2～30倍。

14.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有弹性。

15.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有吸水性。

16.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有弹性和吸水性。

17.如权利要求16所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部为在具有弹性的弹性层的表面叠层有具有吸水性的吸水层的结构。