[发明专利]分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具

说明书

技术领域

本发明涉及在构成为利用测光机构通过光学方法进行试料分析的分析装置中，清洁测光机构的技术。

背景技术

如图17和图18所示，分析装置9构成为：在载置台90的载置部91上载置试验片92，将试验片92输送到测光机构93，根据测光机构93中的测光结果，对试样进行分析(例如参照专利文献1)。测光机构93构成为：发光元件95和受光元件96被保持在盒94中，盒94的下部开口97由透明板98塞住。

透明板98是使由发光元件95发射的光和在试验片92的试剂座99反射的光透过的部分。因此，在透明板98的表面98a有污渍的情况下，透过透明板98时，光会被吸收或被反射，因此优选频繁清洁透明板98的表面98a。

但是，在分析装置9中，为使受光元件96不接收外部光，将载置台90的上面90a和测光机构93的透明板98的表面98a之间的距离设定得较小，将测光机构93配置在装置深处的位置。因此，透明板98的清洁，是通过例如用手电照射测光机构93和载置台93之间的间隙，在该间隙中插入在棉花部分含浸有清洗液的棉签，用棉签的棉花部分擦拭透明板98而进行。因此，透明板98的清洁并不是件容易的工作。此外，由于清洁作业不容易，有时用户惰于进行透明板98的清洁作业。这种情况下，分析结果的可信度差。并且，由于透明板98配置在深处部位，且清洁作业为手工作业，因此，由于用户的不同，清洁程度会产生差异。该差异表现为分析精度的差异。

专利文献1：日本专利第2561509号公报

发明内容

本发明的课题在于在清洁分析装置的测光机构时，减轻用户的负担并提高分析精度。

本发明的第一方面提供一种分析装置，具备用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和具有用于载置上述分析用具的载置部的载置台，其特征在于，清洁用具载置在上述载置台上，在上述测光机构中的光的出射面或入射面由上述清洁用具的按压部按压的状态下，对上述出射面或上述入射面进行清洁。

本发明的分析装置优选构成为：能够利用清洁用具的按压部，对测光机构的出射面或入射面进行擦拭。

测光机构例如能够相对于载置台进行相对的上下移动。相对于载置台的测光机构的相对的上下移动，可以通过仅有测光机构上下移动，或仅有载置台上下移动，或测光机构和载置台两者上下移动而达到。

优选，本发明的分析装置构成为：在载置部载置清洁用具，对上述出射面或上述入射面进行清洁。此时的分析装置优选构成为：在将清洁用具载置在载置部上的状态下，使测光机构位于与载置部对应的位置时，清洁用具的按压部对上述出射面或上述入射面进行按压。

载置台构成为：例如具备沿该载置台的移动方向延伸并具有凹部的导向件。在此情况下，测光机构例如具备与导向件接触的接触部，且接触部构成为：在载置部位于能够对试剂座测光的位置时，进入凹部。

本发明的分析装置优选构成为，在将含浸有清洗液的清洁用具的按压部按压在测光机构的出射面或入射面上的状态下，能够使出射面或入射面升温。

本发明的分析装置也可构成为：利用已知反射率的基准板对测光机构的出射面或入射面的污渍程度进行检查。此时，上述出射面或上述入射面的污渍检查优选在例如电源导通时，或出射面或入射面清洁后即刻实施。作为基准板，使用例如在对测光机构的光源的输出进行检查时，被光源发出的光照射的基准板。

本发明的第二方面，提供分析装置中的测光机构的清洁方法，用于在本发明的第一方面的分析装置中对上述出射面或上述入射面进行清洁，其特征在于，包括在上述清洁用具的按压部含浸有清洗液的状态下，利用上述按压部对上述出射面或上述入射面进行擦拭的第一步骤，且还包括下述第二和第三步骤中的至少一个步骤。

在此，第二步骤是先于第一步骤实施的，为在按压测光机构的出射面或入射面按压含浸有清洗液的清洁用具的按压部的状态下，对出射面或入射面进行加热的步骤；第三步骤是在第一步骤之后实施的，为利用反射率已知的基准板，确认出射面或入射面的污渍程度的步骤。

本发明的第三方面提供一种清洁用具，其特征在于，用于在分析装置中，对测光机构的光的出射面或入射面进行清洁，其中，该分析装置具备：用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和具有用于载置上述分析用具的载置部的载置台，该清洁工具具备：基材，和由该基材支撑的1个或多个按压部。