[发明专利]用于涂覆光学数据载体的片状衬底的装置和方法无效

专利信息
申请号: 200680014284.3 申请日: 2006-04-20
公开(公告)号: CN101213603A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: C·韦因德尔;W·卢克豪布 申请(专利权)人: 施蒂格哈马技术股份公司
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26;C23C14/50;G11B7/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李永波;赵辛
地址: 德国斯台*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 光学 数据 载体 片状 衬底 装置 方法
【权利要求书】:

1.用于涂覆光学数据载体的片状衬底的装置,其包括以下部分:

构成真空腔的外壳,其中外壳具有至少两个涂覆口和至少一个输入/输出口,其中至少两个衬底可以同时通过输入/输出口装入真空腔中或从真空腔中卸出;

至少两个阴极溅射装置,其中每个阴极溅射装置从外部真空密封地封闭外壳的涂覆口中的一个涂覆口,和其中阴极溅射装置各具有一个要溅射的靶子;

布置在真空腔内的输送装置,其用于在至少一个输入/输出口和涂覆口之间同时输送至少四个衬底;和

控制单元,其用于依据要求的涂覆结果这样地控制输送装置,使得衬底从至少一个输入/输出口按顺序地输送到第一涂覆口、第二涂覆口和接着输送到至少一个输入/输出口(串联控制)或这样地,使得衬底从至少一个输入/输出口输送到一个涂覆口和接着直接地输送到至少一个输入/输出口(并联控制)。

2.用于涂覆光学数据载体的片状衬底的装置,其包括以下部分:

构成真空腔的外壳,其中外壳具有至少两个涂覆口和至少一个输入/输出口;

至少两个阴极溅射装置,其中每个阴极溅射装置从外部真空密封地封闭外壳的涂覆口中的一个涂覆口,其中阴极溅射装置各具有一个要溅射的靶子;

布置在真空腔内的输送装置,其用于在至少一个输入/输出口和涂覆口之间同时输送至少两个衬底。

3.按照权利要求1或2所述的装置,其特征在于,输入/输出口和涂覆口在外壳的一个共同的壁中构成。

4.按照前述权利要求中之一所述的装置,其特征在于,至少两个阴极溅射装置具有带不同的材料的靶子。

5.按照前述权利要求中之一所述的装置,其特征在于,输送装置基本上在水平定向上支承衬底。

6.按照前述权利要求中之一所述的装置,其特征在于,在外壳的上壁中构造有不同的开口。

7.按照前述权利要求中之一所述的装置,其特征在于,输送装置具有带至少四个接纳器的可旋转的输送单元和至少一个单独的升降单元。

8.按照权利要求7所述的装置,其特征在于,设有至少两个单独的升降单元。

9.按照权利要求7或8所述的装置,其特征在于,升降单元的升降元件与外壳的各自的开口对准。

10.用于在使用按照前述权利要求中之一所述的装置下涂覆光学数据载体的片状衬底的方法,包括以下步骤;

通过至少一个输入/输出口将至少两个衬底同时装入真空腔中;

通过输送装置将衬底同时输送到各自的涂覆口;

在各自的涂覆口处将衬底同时涂覆上第一覆层。

11.按照权利要求10的方法,其特征在于,衬底在涂覆了第一覆层之后同时通过输送装置输送到至少一个输入/输出口,从此处它们被同时从真空腔中取走。

12.用于在使用按照前述权利要求中之一所述的装置下涂覆光学数据载体的片状衬底的方法,包括以下步骤:

通过至少一个输入/输出口将一个衬底装入真空腔中;

通过输送装置将衬底输送到第一涂覆口;

在第一涂覆口处将衬底涂覆上第一覆层;

通过输送装置将衬底输送到第二涂覆口;

在第二涂覆口处将衬底涂覆上第二覆层,其中第一和第二覆层由不同的材料组成。

13.按照权利要求12的方法,其特征在于,在第一和第二涂覆口处同时涂覆不同的衬底。

14.按照权利要求10至13中之一所述的方法,其特征在于,衬底在进行涂覆期间保持静止。

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