[发明专利]曝光设备无效

专利信息
申请号: 200680014527.3 申请日: 2006-04-28
公开(公告)号: CN101167020A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 桥口昭浩;弘田浩之;福井隆史 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 张成新
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 设备
【说明书】:

相关申请的相互引用

根据USC 119条第35款的规定,本申请要求日本专利申请No.2005-133409,2005-150974和2005-150976的优先权,它们所公开的内容通过引用结合到本文中。

技术领域

本发明涉及一种曝光设备,更具体地,涉及一种装备有空气调节功能装置的曝光设备,该空气调节功能装置基于容纳设备主体的容纳室的测量温度从空气调节器向容纳室供应温度调整的空气,用于空气调节。

进一步地,本发明涉及一种曝光设备,其能够通过测量设备主体中的主要元件的温度来判断和显示曝光性能等级(exposure performancelevel)。

此外,本发明涉及一种曝光设备,其能够响应安装环境温度(installation environment temperature)的变化,来再指定确保图像曝光品质的稳定温度。

背景技术

一种在主扫描激光将激光照射到沿副扫描方向传送的感光膜等感光材料上的同时,描绘预定图案的激光描绘设备(例如,请参见日本专利申请公开公报No.2002-82446)。通过将根据图像数据调制的光束照射到沿扫描方向传送的感光材料上,图像曝光设备利用数字微镜装置(digitalmicromirror device,DMD)等空间光调制器(SLM)来执行图像曝光。在激光描绘设备等扫描曝光设备处,或者在图像曝光设备处,许多发热元件设置在曝光室(容纳室)中,例如辐射光束的曝光头、驱动感光材料传送机构(例如转鼓、传送台等)的驱动电机、控制设备的相应部分的控制板等发热元件。发热元件产生的热量使曝光室的温度发生变化。于是,精度会被降低,例如感光材料的热变形(膨胀/收缩)等引起的曝光位置变化。为了抑制这种精度降低,因此,根据测量的曝光室温度,执行空气调节控制以便从空气调节器向曝光室供应温度调整的空气(冷空气),并将室温保持在预定范围。

然而,在装备有上述空气调节功能装置的曝光设备中,尽管能够抑制曝光室的温度的较大上升(温度变化),但是因为发热元件分散布置在曝光室中,因此难以仅简单地通过供应冷空气到曝光室来使室温均匀(chamber temperature uniform),并且会出现相当大的温度偏差(temperature divergences)。

例如,具有这样一种结构,其中驱动电机随沿扫描方向移动感光材料的传送台一起移动,曝光头沿传送台移动路径等一半地设置,特别易于出现高温的驱动电机、曝光头等沿扫描方向布置。结果,沿扫描方向室温不均匀,沿扫描方向很可能形成温度偏差。此外,这种温度偏差不是恒定的,室温沿扫描方向在各位置处稍微变化,这是由于在曝光操作期间曝光室中的空气流的状态根据传送台移动而变化和由于驱动电机(发热元件)的移动,因此在经历这些轻微室温变化的、设备的各部分处会出现温度变化。

因此,因为沿曝光室的扫描方向的温度偏差和温度变化等,在通过传送台沿扫描方向传送的感光材料处,仍会出现热变形,这会导致曝光精度下降的问题。

具体地,对于采用空间光调制器的图像曝光设备,为了以极高精度来实现与要曝光的更高精度的图像图案(具有紧密的间距和精度增加的曝光位置)相对应的高精度图像曝光,有必要实施能够抑制温度变化的空气调节,这种温度变化是由曝光室中的相应位置处的温度偏差或气流状态的变化导致的。

进一步地,当发热元件导电时,周围的温度会持续上升。通常,在这种温度稳定后开始曝光处理(即,直到达到稳定温度后)。这是因为在达到稳定温度(稳定状态)后开始曝光处理才能够确保稳定的图像曝光品质。然而,鉴于用户要增加生产率,即使不能够确保图像曝光品质(即使稳定的温度没有达到)也要需要开始图像曝光。

目前,这种稳定温度在运输调节(shipping adjustment)时指定。即,稳定温度由运输调节时的安装环境温度决定。因此,如果发送和安装地的环境温度极大地不同于运输调节时的安装环境温度时,则会出现稳定温度的可信度较低的问题。在这种情况下,运输后,需要再获取(再指定)安装地的环境温度中的稳定温度。

发明内容

考虑到上述情况,本发明的第一个目的是提供一种曝光设备,通过实施抑制沿扫描方向的温度差异和温度变化的空气调节,其能够实现高精度曝光。

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