[发明专利]接枝图案形成方法、通过该方法得到的接枝图案材料和使用其的平版印刷方法无效

专利信息
申请号: 200680014938.2 申请日: 2006-05-02
公开(公告)号: CN101185024A 公开(公告)日: 2008-05-21
发明(设计)人: 川村浩一;若田裕一 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;B82B3/00;C08F299/00;G03F7/26
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 耿小强
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 接枝 图案 形成 方法 通过 得到 材料 使用 平版印刷
【权利要求书】:

1.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(A)在能通过曝光产生自由基的基材表面,接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键的高分子化合物的工序、和(B)在该基材进行图像状曝光,以通过曝光在基材表面上产生的自由基为起点,接枝聚合该高分子化合物,图像状地产生接枝聚合物的工序。

2.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(A)在能通过曝光产生自由基的基材表面,接触具有疏油且疏水性官能团、聚合性不饱和双键和亲水性官能团的高分子化合物的工序、和(B)在该基材进行图像状曝光,以通过曝光在基材表面上产生的自由基为起点,接枝聚合该高分子化合物,图像状产生接枝聚合物的工序。

3.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(A)在能通过曝光产生自由基的基材表面,接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键,且在碱水或水中可溶,或可膨胀的高分子化合物的工序、和(B)在该基材进行图像状曝光,以通过曝光在基材表面上产生的自由基为起点,接枝聚合该高分子化合物,图像状产生接枝聚合物的工序。

4.如权利要求2或3所述的接枝图案形成方法,其特征在于,具有通过水或碱水处理,从而除去未反应的上述高分子化合物的工序。

5.如权利要求1~3中任一项所述的接枝图案形成方法,其中,上述能通过曝光产生自由基的基材是含有自由基引发剂的基材。

6.如权利要求1~3中任一项所述的接枝图案形成方法,其中,上述能通过曝光产生自由基的基材是包含具有产生自由基部位的高分子化合物的基材。

7.如权利要求1~3中任一项所述的接枝图案形成方法,其中,上述能通过曝光产生自由基的基材是在支持体表面涂布具有交联剂和产生自由基部位的高分子化合物的涂布液,然后干燥,在涂膜内形成交联结构的基材。

8.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(C)在基材表面接触夺氢型的自由基引发剂,曝光成图案状,从而在基材表面产生自由基的工序、(D)在该基材表面接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键的高分子化合物,以产生的自由基为起点,接枝聚合该高分子化合物,以图像状生成接枝聚合物的工序。

9.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(C)在基材表面接触夺氢型的自由基引发剂,曝光成图案状,从而在基材表面产生自由基的工序、(D)在该基材表面接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键,且在碱水或水中可溶,或可膨胀的高分子化合物,以产生的自由基为起点,接枝聚合该高分子化合物,以图像状生成接枝聚合物的工序。

10.如权利要求9所述的接枝图案形成方法,其特征在于,具有通过水或碱水处理,从而除去未反应的上述高分子化合物的工序。

11.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(E)通过光裂解而引发自由基聚合的光聚合引发部位以共价键在基材表面形成图案状的工序、和(F)在该基材上接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键的高分子化合物后,进行全面曝光,在上述设置成图案状的该光聚合引发部位产生光裂解,进行自由基聚合,从而产生图案状接枝聚合物的工序。

12.一种接枝图案形成方法,其特征在于,具有(E)通过光裂解而引发自由基聚合的光聚合引发部位以共价键在基材表面形成图案状的工序、和(F)在该基材上接触具有疏油且疏水性官能团以及聚合性不饱和双键,且可溶在碱水或水中,或可膨胀的高分子化合物后,进行全面曝光,在上述设置成图案状的该光聚合引发部位产生光裂解,进行自由基聚合,从而产生图案状接枝聚合物的工序。

13.如权利要求12所述的接枝图案形成方法,其特征在于,具有通过水或碱水处理,从而除去未反应的上述高分子化合物的工序。

14.如权利要求11~13中任一项所述的接枝图案形成方法,其特征在于,上述(E)通过光裂解而引发自由基聚合的光聚合引发部位以共价键在基材表面形成图案状的工序,包括(E-1)在基材上结合具有能通过光裂解引发自由基聚合的光聚合引发部位与基材键连部位的化合物的工序、和(E-2)进行图案曝光,使曝光区域的该光聚合引发部位失活的工序。

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