[发明专利]曝光装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：

第1载台；

第2载台；

维护装置，其进行所述第2载台的维护；及

控制装置，用于在载置于所述第1载台的基板的曝光处理中通过所述维护装置执行所述维护。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置进一步具备：

投影光学系统，其将图案像投影于所述基板；

第1驱动装置，其能将所述第1载台移动至与投影光学系统对向的位置；以及

第2驱动装置，其能将所述第2载台移动至与投影光学系统对向的位置。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2载台是进行曝光相关测量的测量载台。

4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置用以洗净所述第2载台。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备：供应装置，用以将洗净剂供应至所述第2载台；及用以回收所述洗净剂的回收装置。

6.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备光洗净装置，以将紫外线照射于所述第2载台的至少一部分区域。

7.如权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2载台具备能交换的交换构件；

所述维护装置用以交换所述交换构件。

8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备调整装置，以调整所述交换构件相对于所述第2载台的位置。

9.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

在所述第2载台的至少一部分设置疏液涂层；

所述维护装置进行所述疏液涂层的维护。

10.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：

第1载台；

第2载台；及

调温装置，用以控制所述第1载台与所述第2载台间的空间的气体流动，将所述第1载台及所述第2载台的至少一方调温。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述调温装置设置于所述第1载台或所述第2载台。

12.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述调温装置将调整为既定温度的气体供应至所述第1载台与所述第2载台间的空间。

13.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述调温装置吸引所述第1载台与所述第2载台间的空间的气体。

14.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述调温装置具备导风构件，以将于其它空间流动的气体导引至所述第1载台与第2载台间的空间。

15.一种元件制造方法，其特征在于，所述元件制造方法包含：

使用权利要求1至14中任一项所述的曝光装置，将元件图案转印于基板上的步骤。

16.一种曝光方法，其用以将基板曝光，其特征在于，所述曝光方法包含以下步骤：

使用保持所述基板的第1载台来执行既定处理；及

在所述既定处理的执行中，执行与所述第1载台不同的第2载台的维护。

17.如权利要求16所述的曝光方法，其特征在于，所述第2载台包含进行曝光相关测量的测量载台。

18.如权利要求16或17所述的曝光方法，其特征在于，所述维护包含所述第2载台的洗净。

19.如权利要求18所述的曝光方法，其特征在于，所述洗净是通过将洗净剂供应至所述第2载台上面来执行。

20.如权利要求18所述的曝光方法，其特征在于，所述洗净是通过将紫外线照射于所述第2载台上面来执行。

21.如权利要求16至20中任一项所述的曝光方法，其特征在于，所述既定处理包含保持于所述第1载台的基板的曝光处理。

22.一种元件制造方法，其特征在于，所述元件制造方法包含以下步骤：

使用权利要求16至21中任一项所述的曝光方法以使所述基板曝光；及

将已曝光的基板进行显影处理。