[发明专利]光刻用清洗液无效
| 申请号： | 200680018671.4 | 申请日： | 2006-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN101185033A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 中山一彦;秀坂慎一 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;C11D7/26;C11D7/60;H01L21/027;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 清洗 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻用清洗液，其包含单独的烷氧基羧酸烷基酯，或烷氧基羧酸烷基酯与烷氧基苯的混合溶剂。
2.权利要求1所述的光刻用清洗液，其中，烷氧基羧酸烷基酯为甲氧基丙酸烷基酯。
3.权利要求1或2所述的光刻用清洗液，其中，烷氧基苯为苯甲醚。
4.权利要求1至3中任一项所述的光刻用清洗液，其包含烷氧基羧酸烷基酯与烷氧基苯的混合溶剂。
5.权利要求4所述的光刻用清洗液，其中，以混合溶剂的总质量为基准，烷氧基苯的添加量为50质量％以下。
6.权利要求1至5中任一项所述的光刻用清洗液，其用于除去含有丙烯酸系聚合物的光致抗蚀剂组合物。
7.权利要求1至6中任一项所述的光刻用清洗液，其用于除去附着于光致抗蚀剂供应装置的含有丙烯酸系聚合物的光致抗蚀剂组合物的残留物。
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