[发明专利]基板制造方法和曝光装置无效

专利信息
申请号: 200680023976.4 申请日: 2006-06-28
公开(公告)号: CN101213492A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 尾崎多可雄;江尻铁平 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 方法 曝光 装置
【权利要求书】:

1.一种基板制造方法,是用于制造包括规定结构部件的基板的方法,其特征在于,在用于形成至少一种结构部件的工序中,

将形成有利用低倍率摄影可识别的第一图案和仅仅利用高倍率摄影可识别的第二图案的基板设置在定义了虚坐标系的平面上;

在基于所述虚坐标系设定的规定位置以低倍率对前述基板进行摄影;

从通过该摄影得到的低倍率摄影图像中识别所述第一图案;

基于该第一图案已经被识别的位置来在所述平面上定义基本坐标系;

计算出基于虚坐标系设定的多个基准点的、在前述基本坐标系中的位置坐标;

在算出的位置坐标表示的位置上以高倍率对所述基板进行摄影;

通过从由该摄影得到的高倍率摄影图像中识别所述第二图案的形状和/或颜色,确定所述基准点的所述基板上的实际位置;

基于通过上述识别确定的位置的信息,将表示所述结构部件的图案的图像即在由所述多个基准点确定的区域中记录的区域图像进行补正;

基于构成补正的区域图像的各像素的值,通过控制用于扫描基板的光束打开/关断,来在所述基板上记录图像;以及

通过将所述基板加工成记录的图像形状,在该基板上形成所述结构部件。

2.根据权利要求1记载的基板制造方法,其特征在于,所述第二图案是构成所述基板的结构部件的一种,是通过上述工序之前的工序形成的结构部件的图案。

3.一种曝光装置,其特征在于,包括:

能够设置曝光对象的基板的台架;

通过利用基于构成被供给图像的各像素的值来打开/关断控制的光束而扫描在所述台架上设置的基板,在所述基板上记录所述图像的记录部件;

在所述台架上方相对于该台架以能够相对移动的状态设置的且能够以高倍率摄影基板的至少一个高倍率照相机;

在所述台架上方相对于该台架以能够相对移动的状态设置的且能够以低倍率摄影基板的至少一个低倍率照相机;

控制所述高倍率照相机和低倍率照相机的摄影的摄影控制部件;以及

对所述记录部件的记录位置进行调整的记录位置控制部件,

所述记录位置控制部件是如下部件:

对于所述摄影控制部件,指示在基于在所述台架上定义的虚坐标系设定的预定位置上,通过低倍率照相机对所述基板进行摄影;

从通过基于该指示进行摄影得到的低倍率摄影图像中,识别所述第一图案;

基于该第一图案已经被识别的位置,在所述台架上定义基本坐标系;

算出基于虚坐标系设定的多个基准点的、在所述基本坐标系中的位置坐标;

对于所述台架和/或所述摄影控制部件,指示在所述计算出的位置坐标所表示的位置的上方相对移动所述高倍率照相机;

对于所述摄影控制部件,指示利用所述相对移动的高倍率照相机以高倍率对所述基板进行摄影;

通过从基于该指示进行摄影得到的高倍率摄影图像中识别所述第二图案的形状和/或颜色,确定所述基准点的所述基板上的实际位置;

基于通过所述识别确定的位置的信息,对表示所述结构部件的图案的图像即通过所述多个基准点确定的区域上记录的区域图像进行补正;

通过将由补正的区域图像构成的图像供给所述图像记录部件,对所述图像的记录位置进行调整。

4.根据权利要求3记载的曝光装置,其特征在于,包括多个高倍率照相机和/或多个低倍率照相机,

所述摄影控制部件控制多个高倍率照相机的摄影和/或多个低倍率照相机的摄影。

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