[发明专利]基板制造方法和曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶面板基板和印刷基板等各种基板的制造方法以及在这种方法中使用的曝光装置。更具体地说，本发明涉及在基板上曝光形成各种图案时的图案的位置控制。

背景技术

在液晶面板的制造工序中，提高面板的像素开口率通常是重要的课题。特别是最近，为了抑制液晶显示器的制造成本，采用了低价格的背光源，对于像素开口率的要求更严格了。为了使像素开口率大，必须使构成液晶面板的滤色器基板的黑矩阵细线化。但是，在构成滤色器基板的部件中，还有必须配置在黑矩阵的线宽内的部件。如果促进黑矩阵的细线化，就要求这种部件的配置具有非常高的位置精度。

构成液晶面板的各个部件的形成通常通过使用掩模的面曝光来实现(例如参照日本特开2002-350897号公报)。可是，由于在使用掩模的面曝光中容易发生图案的位置偏移，因此通过使黑矩阵的线宽大而只能吸收位置偏移的影响。因此，在通过面曝光的部件形成中，难以进行黑矩阵的细线化。

与此相对，近年来，提出一种使用数字曝光装置来进行基板的曝光的方法。例如在日本特开2005-037911号公报中，公开了一种在记录介质歪曲的情况下可以补正图像的记录位置偏移的数字曝光装置。

近年来，伴随着液晶电视等产品的大型化，在液晶面板制造工序中采用的玻璃基板的大小超过了2米。当基板很大时，即使稍微的温度变化，也不能无视玻璃的变形量。例如，即使是温度膨胀系数低于32e^-7/℃的玻璃基材，如果是2米的玻璃，0.15度的温度变化也会引起大小为1μm的变化。在通过曝光层状形成图案的过程中，如果发生这种温度变化，形成的图案将发生偏移，导致产品的成品率恶化。

在日本特开2005-037911号公报公开的装置中，以在基板上设置的位置确定标记为基准，在基板上定义区域，通过补正在每个区域中记录的图像，来补正记录位置的偏移。可是，当在大型基板上高密度形成图案的情况下，预先记录了位置确定标记的位置在某种程度上受到限制。因此，如果位置确定标记的间隔过宽，就不能实现正确的位置定位。

发明内容

因此，根据本发明，当在大型基板上高密度形成图案时，通过能够正确地控制曝光位置，即使将黑矩阵细线化，也不会存在由于图案的位置偏移导致的液晶面板的开口率下降。而且，还可以防止由于发生位置偏移而导致成品率下降。

本发明是用于制造包括规定结构部件的基板的方法，其特征在于，在形成至少一种结构部件的工序中，按照以下顺序形成结构部件。而且，这里，所谓“基板”，不仅指作为液晶面板基板或印刷基板那样的制品而完成的基板，还包括在滤色器基板或阵列基板那样的在制造工序中作为中间生成物的基板。

首先，在定义了虚坐标系的平面上设置形成了可以通过低倍率摄影识别的第一图案和可以仅仅通过高倍率摄影识别的第二图案的基板。然后，在基于所述虚坐标系所设定的规定位置上，以低倍率摄影所述基板，从通过这种摄影得到的低倍率摄影图像中识别所述第一图案，基于识别第一图案的位置，在所述平面上定义基本坐标系。即，通过确认基板的实际配置状态，来确定成为基于此实际状态的处理基准的坐标系。

这里，由于“低倍率”或“高倍率”表示相对的倍率，因此其范围不特别限制。摄影倍率可以与第一图案和第二图案的大小吻合来设定。

作为“可以通过低倍率摄影识别的第一图案”的例子，可列举出在基板上设置的位置定位专用的标记。或者，在由前面工序所形成的结构部件中，可以是能够通过低倍率摄影所识别的大小的结构部件。作为“可以仅仅通过高倍率摄影识别的第二图案”的例子，可以列举出作为构成基板的结构部件的一种，由前面工序所形成的结构部件的图案。

而且，“可通过摄影识别”的图案除了在基板表面形成的图案之外，还包括在基板内部掩埋形成的图案。例如，在基板表面上形成透明层，如果通过透明层可观察到在其下形成的图案，则这个图案就是“可识别”的图案。此外，基板的表面的层即使为不透明的层，通过从基板表面的凸凹所产生的阴影，在可以识别在其下掩埋的图案的形状的情况下，该图案也是“可识别”的图案。

接着，经过定义基本坐标系，计算出基于虚坐标系所设定的多个基准点的、在基本坐标系中的位置坐标，在计算出的位置坐标表示的位置上，以高倍率摄影所述基板。例如，在相同图案连续排列的结构的基板中，如果是以30cm间隔设定基准点的情况，则以30cm间隔高倍率摄影基板上的图案。