[发明专利]原位热诱发的抗原修复及染色设备和方法

权利要求书

1.一种原位抗原修复及染色设备，其包括：

多个可独立操作的反应模块，各反应模块包括：

具有内部空间的反应舱；

能够将显微镜载玻片支撑在水平位置上的载玻片支撑元件，所述载玻片支撑元件可定位在所述反应舱的内部空间中或与其相邻的位置，用于将所述显微镜载玻片密封在所述反应舱中，其中，之后可对所述反应舱进行加压，以保持超过大气压的内部压力；

用于加热所述显微镜载玻片的加热元件；

用于支撑试剂带的试剂带支撑器件，所述试剂带具有多个各包含或能够包含试剂的试剂容器，其中，所述试剂带支撑器件将所述试剂带支撑在所述反应舱外部且与之相邻的位置；和

分配元件，其用于与所述试剂容器相接合，从而致使试剂从所述试剂容器输送到所述反应舱的内部空间中，并输送到所述显微镜载玻片上；和

其中，所述多个反应模块的各反应舱是可单独且独立地加压的，并且所述多个反应模块的各加热元件是可单独且独立地加热的。

2.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱可在所述加热元件加热所述显微镜载玻片之前、期间或之后进行加压。

3.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述加热元件是所述载玻片支撑元件的一个构件，并且直接定位在所述显微镜载玻片下面。

4.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱具有圆柱形管状形状。

5.根据权利要求4所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述载玻片支撑元件具有圆柱形的形状。

6.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱具有矩形形状。

7.根据权利要求6所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述载玻片支撑元件具有矩形形状。

8.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述各反应模块的载玻片支撑元件相对于各个其它载玻片支撑元件是可独立移动的，所述各反应模块的试剂带相对于各个其它试剂带是可独立移动的，所述各反应模块的反应舱相对于各个其它反应舱是可独立移动的，并且所述各反应模块的分配元件相对于各个其它分配元件是可独立移动的。

9.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱是可加压的，以保持高于大气压的压力。

10.根据权利要求9所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱可加压至0psig以上至350psig(101.3-2514kPa)的压力，1至100psig(108.2-790.6kPa)的压力，5至50psig(135.8-446.0kPa)的压力，或10至40psig(170.3-377.0kPa)的压力。

11.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应舱可进行减压，以保持低于大气压的压力，该压力低至100kPa至10kPa至1kPa至100Pa至10Pa至1Pa至0.1Pa的压力水平。

12.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，设置在所述显微镜载玻片上或周围的试剂可加热到25℃至37℃，37℃至56℃，56℃至85℃，85℃至100℃，100℃至125℃，125℃至135℃，135℃至150℃，150℃至175℃，175℃至200℃，200℃至225℃，225℃至250℃，250℃至275℃，275℃至300℃，300℃至325℃，或325℃至350℃的温度。

13.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应模块的载玻片支撑元件是可移动的，所述反应舱是固定的，并且所述试剂带支撑器件是固定的。

14.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应模块的载玻片支撑元件是可移动的，所述反应舱是可移动的，并且所述试剂带支撑器件是固定的。

15.根据权利要求1所述的原位抗原修复及染色设备，其特征在于，所述反应模块的载玻片支撑元件是可移动的，所述反应舱是固定的，并且所述试剂带支撑器件是可移动的。