[发明专利]反射膜用层叠体无效
申请号: | 200680027724.9 | 申请日: | 2006-07-04 |
公开(公告)号: | CN101233434A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 蛭间武彦;进奈绪子 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沙永生 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 层叠 | ||
1.层叠体,它是在基板上依次层叠有银膜、密合改善膜、低折射率膜、高折射率膜的层叠体,其特征在于,前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层通过采用含氮的溅射气体的溅射法形成,前述密合改善膜的消光系数在0.1以下且膜厚为0.5~4nm,前述低折射率膜的消光系数在0.01以下,前述高折射率膜的消光系数在0.01以下。
2.如权利要求1所述的层叠体,其特征在于,前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层的膜厚为1~5nm。
3.如权利要求1或2所述的层叠体,其特征在于,前述溅射气体中的氮含有率相对于溅射气体整体为5~20体积%。
4.如权利要求1~3中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述银膜为银和金的合金膜。
5.如权利要求4所述的层叠体,其特征在于,前述银膜中的金含有率为0.5~10原子%。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述低折射率膜的材料的主要成分为氧化硅。
7.如权利要求1~6中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述高折射率膜的材料为选自氧化铌、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氧化钛和氧化锡的1种以上。
8.如权利要求1~6中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述高折射率膜的材料为氧化铌。
9.如权利要求1~8中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述密合改善膜的材料为选自氧化锌、氧化锡、氧化铟、氧化铝和氧化钛的1种以上。
10.如权利要求9所述的层叠体,其特征在于,前述密合改善膜为氧化锌膜,前述氧化锌膜含有其它金属,且前述其它金属为选自镓、锡、硅和钛的1种以上。
11.如权利要求10所述的层叠体,其特征在于,前述其它金属的含量相对于氧化锌膜中的所有金属元素换算成氧化物计共为2~10质量%。
12.如权利要求9所述的层叠体,其特征在于,前述密合改善膜为氧化铟膜,前述氧化铟膜含有锌。
13.如权利要求12所述的层叠体,其特征在于,前述锌的含量相对于密合改善膜中的所有金属元素为5~15质量%。
14.如权利要求1~13中的任一项所述的层叠体,其特征在于,在前述银膜的基板侧形成有基底膜,前述基底膜的几何学膜厚为1~20nm,前述基底膜的材料为选自氧化锌、氧化锡、氧化铟、氧化铝、氧化钛、氧化铌和氧化铬的1种以上。
15.如权利要求1~14中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述银膜、前述密合改善膜、前述高折射率膜和前述基底膜通过溅射法形成。
16.如权利要求1~15中的任一项所述的层叠体,其特征在于,前述银膜的膜厚为60~200nm,前述低折射率膜的膜厚为25~60nm,前述高折射率膜的膜厚为35~70nm。
17.显示器,其特征在于,权利要求1~16中的任一项所述的层叠体被用作显示器的光源的反射构件。
18.层叠体的制造方法,它是在基板上依次层叠银膜、密合改善膜、低折射率膜、高折射率膜的层叠体的制造方法,其特征在于,前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层通过采用含氮的溅射气体的溅射法形成;所述层叠体被形成为,前述密合改善膜的消光系数在0.1以下且膜厚为0.5~4nm,前述低折射率膜的消光系数在0.01以下,前述高折射率膜的消光系数在0.01以下。
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