[发明专利]反射膜用层叠体

说明书

技术领域

本发明涉及主要被用于投影电视机的反射构件的层叠体。

背景技术

目前，将金属膜用于反射的镜被广泛用作显示屏等电子设备所使用的反射镜。为了电子设备的亮度提高和能耗节省，重要的是提高反射镜的反射率。例如，移动电话等所使用的液晶显示器中采用使背光反射的镜，但该镜为了轻量化而采用膜作为基板，并且需要反射率高的反射镜。此外，向如投影电视机等大画面的屏幕投射图像，光学系统中需要多块反射镜，因此光量随反射次数的增加而下降。其结果是，存在最终所得的光量变小而画面的亮度下降的问题，需要反射率比以往更高的反射镜。

一直以来，金属膜的材料采用铝。但是。金属膜的材料采用铝的情况下，反射率根据光的入射角变化，产生反射色出现偏差的问题。

为了解决上述问题，采用了将可见光区域的反射率比铝高的银用作金属膜的材料的方法。但是，虽然银在可见光区域的反射率比铝高，但耐湿性和耐盐水性等耐久性低，且膜的强度也弱，与基板的密合性差，因此存在容易损伤的问题。

作为采用Ag膜作为金属膜的具有高反射率且耐久性良好的镜，揭示有在玻璃基板上依次层叠Al₂O₃膜、Ag膜、Al₂O₃膜、TiO₂膜而成的层叠体(例如参照专利文献1)。但是，该层叠体由于在制造Ag膜的基板相反侧的Al₂O₃膜时导入氧，因此存在银容易被氧化而反射率降低的问题。

此外，还揭示有为了改善Ag膜和基板的密合性而在Ag中混合Ce、Nd等金属的反射膜(例如参照专利文献2)。但是，该反射膜由于是银的单膜，因此仅有关于Ag膜和基板的密合性的记载，完全没有关于Ag膜和其它层的密合性的评价。

此外，揭示有在Ag膜上形成Al₂O₃膜、ZrO₂膜、SiO₂膜而成的反射镜(例如参照专利文献3)。该文献中记载了Al₂O₃膜为用于提高Ag的耐久性的保护膜，ZrO₂膜为用于提高反射效率的膜，SiO₂膜为保护膜的技术内容。此外，揭示有为了使基板和Ag膜的密合性提高而在基板和Ag膜之间形成由氧化铬形成的膜的技术方案(例如参照专利文献4)。此外，记载有在Ag膜上形成Al₂O₃膜，并为了进一步提高耐久性而设置氧化锆、二氧化硅、氧化钛、氧化铪、氧化锡、氧化锑、氧化钨等的层的技术方案(例如参照专利文献5)。此外，揭示有为了提高耐久性而在基板和Ag膜之间设置由氧化硅形成的基底膜的技术方案(例如参照专利文献6)。但是，这些反射膜存在可见光区域的反射率低的问题。

专利文献1：日本专利特开2003-4919号公报

专利文献2：日本专利特开2002-226927号公报

专利文献3：日本专利特开平5-127004号公报

专利文献4：日本专利特开2000-81505号公报

专利文献5：日本专利特开2000-241612号公报

专利文献6：日本专利特开2001-74922号公报

发明的揭示

本发明的目的在于提供在整个可见光区域具有高反射率，耐湿性和耐盐水性等耐久性及密合性良好的层叠体。

本发明具有如下所示的构成。

(1)层叠体，它是在基板上依次层叠有银膜、密合改善膜、低折射率膜、高折射率膜的层叠体，其特征在于，前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层通过使用氧化物靶材并采用含氮的溅射气体的高频溅射法形成，前述密合改善膜的消光系数在0.1以下且膜厚为0.5～4nm，前述低折射率膜的消光系数在0.01以下，前述高折射率膜的消光系数在0.01以下。

(2)层叠体的制造方法，它是在基板上依次层叠银膜、密合改善膜、低折射率膜、高折射率膜的层叠体的制造方法，其特征在于，前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层通过溅射气体中不含氧的溅射法形成，前述密合改善膜的消光系数在0.1以下且膜厚为0.5～4nm，前述低折射率膜的消光系数在0.01以下，前述高折射率膜的消光系数在0.01以下。

另外，膜厚在本发明中是指几何学膜厚。