[发明专利]沉积方法无效
申请号: | 200680032765.7 | 申请日: | 2006-09-11 |
公开(公告)号: | CN101384748A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 叶亮 | 申请(专利权)人: | 皮尔金顿集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C30/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 英国默*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 方法 | ||
本发明涉及在浮法玻璃生产过程中将包含氧化锌的镀膜沉积到连续玻璃带 的表面上的新方法。确信由这些方法所制备的镀覆了的玻璃带是新颖的并构成 了本发明的第二方面。
包含氧化锌的透明导电镀膜已被施加于玻璃基底。该镀覆了的玻璃可能用 于包括阳光控制玻璃制品和低辐射玻璃制品的多种用途中。最通常地是使用溅 射技术来施加该镀膜。
包括金属氧化物的各种镀膜已经在浮法玻璃生产过程中被施加到连续玻璃 带上。通常地,使用化学气相沉积方法(为方便起见在下文中称为CVD方法)来 施加这些镀膜,其中,在该玻璃带的温度足够驱动沉积反应的时候,使包含金 属氧化物前体的蒸气与玻璃带接触。为了实用,该方法必须在一定的沉积速率 下沉积所需质量的镀膜、该速率足够高以在可用的时间内赋予镀膜预定的厚度, 和使用可挥发的、并能够不伴有任何显著的预反应发生地被输送至玻璃带的前 体。如今急迫的需要能够满足这些标准并以经济的方式制备所需产品的方法。
已有提议使用CVD方法来在玻璃上沉积包含氧化锌的镀膜。
USP 4751149公开了在60℃到350℃的温度下将有机锌前体,例如二乙基锌 和氧化剂在封闭室中与玻璃基体接触的方法。室中的压力优选是0.1至2.0托。 封闭室的使用和低反应速率(每分钟)使得这些方法不适合于用在连续玻 璃带的镀覆中。
USP 4990286公开了使用二乙基锌和含氧化合物在玻璃上沉积氟化的氧化 锌镀膜的方法,该含氧化合物可以是醇、水或氧气,而玻璃是处于350℃到500 ℃的温度。该沉积发生数分钟的时间,而使得这些方法不适合于用在连续玻璃 带的镀覆中。
USP 6071561公开了利用二烷基锌化合物的螯合物作为前体,然而在其他方 面类似于USP 4990286的方法。该沉积也发生数分钟的时间因而这些方法不适 合于镀覆连续玻璃带。
USP 6416814公开了使用锡、钛或锌的配位化合物(ligated compound)来沉 积锡、钛或锌氧化物的方法。据称在400℃到700℃的温度下将这些配位化合物 与玻璃接触而不使用额外的氧化剂。其未公开沉积氧化锌镀膜的方法的细节。
现在,我们已发现了一种用于沉积氧化锌镀膜的CVD方法,该氧化锌镀膜 能够在玻璃带的温度处于500℃到700℃的范围时被迅速而有效地沉积在浮法玻 璃带上,其中的气相包括二烷基锌化合物和含氧有机化合物。因此,本发明的 第一方面提供了一种在浮法玻璃生产过程中将包含氧化锌的镀膜沉积到连续玻 璃带的表面上的方法,其包括形成包含二烷基锌化合物和含氧有机化合物的流 体混合物、并在玻璃的温度处于500℃到700℃的范围时将所述的混合物与玻璃 带的表面相接触,该二烷基锌化合物具有通式R2Zn,其中的R代表包含1到4 个碳原子的烷基。
优选的二烷基锌化合物是其中的R基为甲基或乙基的化合物,也就是说, 优选的化合物是二甲基锌和二乙基锌。
含氧有机化合物可以是任何在低于其和二烷基锌化合物反应的温度时,在 大气压力下具有足够的挥发性以和二烷基锌化合物一起混入气相的化合物。优 选的有机化合物是脂族醇和羧酸酯。
当有机含氧化合物为酯时,其优选是具有通式 R′-C(O)-O-C(XX′)-C(YY′)-R″的酯,其中R′和R″可以相同或不同、并代表包含 1到10碳原子的烷基,X和X′、Y和Y′可以相同或不同、并代表氢原子或者包 含1到4个碳原子的烷基,附带条件是Y或Y′的至少一个为氢原子。
更优选地,酯是具有该通式的且其中R′表示包含1到4个碳原子的烷基。 最优选地,R′表示乙基。
当含氧化合物为醇时,其优选地是包含1到6个碳原子的脂族醇,最优选 包含1到4个碳原子。
用于本发明的方法中的优选的含氧有机化合物是甲酸乙酯、乙酸乙酯、丙 酸乙酯、丁酸乙酯、甲酸正丙酯、乙酸正丙酯、丙酸正丙酯、丁酸正丙酯、甲 酸异丙酯、乙酸异丙酯、丙酸异丙酯、丁酸异丙酯、甲酸正丁酯、乙酸正丁酯、 乙酸仲丁酯、乙酸叔丁酯、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇和叔丁醇。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的