[发明专利]空心体内面的等离子体处理的方法和设备

权利要求书

1.用于空心体形的工件的等离子体处理的方法，其中在一反应器 室内将一处理区域至少部分地抽成真空，将一过程气体导入处理区域 内，并且借助于射进的电磁能量在工件的表面的至少一部分的周围中 在导入处理区域的过程气体中触发等离子体；其特征在于，在将用于 产生等离子体的电磁能量射进导入的过程气体期间，通过在一与反应 器室分开的室中的辉光放电，在与反应器室分开的室内激发气体，从 而触发等离子体，过程气体在等离子体处理过程中在处理区域的对置 的两端之间流过处理区域，其中工件具有一第一圆柱形的或圆柱似的 表面和一个圆柱形的或圆柱似的成型部，该成型部具有较小的直径和 较小的长度以及一第二圆柱形的或圆柱似的表面，其中成型部的直径 和高度比工件的最大直径和高度小至少20％。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，在激发气体时产生 如下的至少一种能量丰富的形态或辐射：

i)激发的电子

ii)激发的离子

iii)激发的中性粒子

iv)紫外线辐射

并且由此促进等离子体的触发。

3.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在周围借助于 一在分开的室中的辉光放电触发等离子体，并且通过下列参数的至少 一个触发辉光放电：

i)在0.1kV-100kV的高电压，

ii)具有频率0.2kHz-100MHz的交流电，

iii)在0.01mA-2A范围内的有效的交流电。

4.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，只在空心体的 内面上实施等离子体处理。

5.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，只在工件的外 面上实施等离子体处理。

6.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，不仅在空心体 的内面上而且在外面上实施等离子体处理，并且在空心体的内面和外 面上的等离子体处理是不同的或以不同的方式对表面产生作用。

7.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，

i)工件成形成圆柱形或圆柱似的，并且最大外径在1mm至50mm 之间，并且高度为10mm至200mm；或

ii)工件最大内径在1mm至50mm之间，并且高度为10mm至 200mm以及壁厚为0.2mm至10mm；或

iii)工件包括一第二圆柱形的或圆柱似的成型部，该成型部具有 较小的直径和较小的长度，该成型部具有一狭窄的导管状的在0.01与 15mm之间的内径；或

iv)工件容积在0.1-100ml的范围内。

8.按照权利要求1、2或7所述的方法，其特征在于，工件成形 成圆柱形的或圆柱似的，包括第一圆柱形的或圆柱似的表面；并且具 有一圆柱形的或圆柱似的成型部，包括第二圆柱形的或圆柱似的表面， 其中在第一圆柱形或圆柱似的表面上涂覆至少一个膜厚为D1的薄膜， 而在第二圆柱似的表面上涂覆厚度为D2的膜，其中对于厚度D1与 D2的比例满足0.2≤D2/D1≤5。

9.按照权利要求1或7所述的方法，其特征在于，将过程气体经 由至少一个导管通入处理区域，导管内孔径在0.1mm与5.0mm之间， 并且导管壁厚在0.05mm与3.0mm之间。

10.按照权利要求1、2或7所述的方法，其特征在于，工件通过 一在第一端上的孔抽成真空，并且通过工件的对置于第一端的第二端 上的另一孔导入过程气体，并且沿轴向方向输入耦合电磁能。

11.按照权利要求1、2或7所述的方法，其特征在于，在内面等 离子体处理注射器体。

12.按照权利要求11所述的方法，其特征在于，将注射器体的空 腔通过注射器体的活塞孔抽成真空。

13.按照权利要求12所述的方法，其特征在于，通过注射器体的 鲁厄氏锥体供给过程气体。

14.按照权利要求12所述的方法，其特征在于，通过注射器体的 活塞孔供给过程气体。