[发明专利]空心体内面的等离子体处理的方法和设备

说明书

技术领域

本发明总体上涉及空心体形的基材、特别是小直径的基材、例如典型的药物封装件的内面的等离子体处理。 

背景技术

由EP 1 206 389 B1已知一种用于材料在塑料容器中无菌封装的方法和设备。对此实施等离子体处理，例如等离子体灭菌，其中在容器壁的不同的区域内进行等离子体的空间上的和/或时间上的选择性的激发。利用该方法和设备应可实施在塑料容器如安瓿、瓶子或管形瓶中液体的无菌的、在药品的情况下甚至无热解的封装并且可与其他的处理步骤相组合。 

EP 1 250 190 A1描述一种用于空心体的均匀涂膜的方法，其中将空心体的敞开的一端用一盖气密地密封，将空心体装入一诱发等离子体的CVD反应器中，给空心体设置真空，调准一涂膜温度并且实现诱发等离子体的涂膜。 

此外由DE 196 29 877 C1已知一种CVD方法和设备用于空心体的内部涂膜，其中涂膜质量已在制造过程中可以预告。对此采用一等离子体脉冲方法，其中通过时间上的一系列的触发脉冲触发等离子体，同时不仅在加热阶段而且在涂膜阶段的时期测量和评定一氧等离子体随触发脉冲的光脉冲的时间上的校正，以及涂膜气体的至少一个发射谱线的强度。 

DE 196 34 795 C2描述一种等离子体CVD设备，包括一排微波等离子体电极和一控制电路。每两个邻近的等离子体电极对此通过控制电路到不同的时间施加以微波脉冲，其中脉冲的持续时间短于一通常用于等离子体脉冲CVD方法的脉冲的持续时间。 

由DE 44 38 359 C2已知一种塑料容器，包括一阻挡涂膜，其中阻挡涂膜由层叠构成，该层叠具有由一个或多个无机的氧化物、氮化物或氮氧化物或其混合物组成的无机的材料和一有机的聚合材料的连续设置的阻挡层。层叠对此包括至少两个无机材料的阻挡层。各层优选借助于等离子体聚合作用沉积。 

发明内容

本发明的目的在于，改进小的和/或长形的具有狭窄横截面的空心体的等离子体处理。这样的空心体形的工件的涂膜是一技术的挑战，其至今只不充分地得到解决。 

依此本发明提供一种用于空心体形的工件的等离子体处理的方法，其中在一反应器室内将一处理区域至少部分地抽成真空，将一过程气体导入处理区域，例如工件的空腔中，并且借助于射进的电磁能量在工件的表面的至少一部分的周围中在导入处理区域的过程气体中触发一等离子体，在将用于产生等离子体的电磁能量射进导入的过程气体期间，通过在一与反应器室分开的室中的辉光放电，在与反应器室分开的室内激发气体，从而触发等离子体，其中过程气体在等离子体处理过程中在处理区域的对置的两端之间流过处理区域，其中工件具有一第一圆柱形的或圆柱似的表面和一个圆柱形的或圆柱似的成型部，该成型部具有较小的直径和较小的长度以及一第二圆柱形的或圆柱似的表面，其中成型部的直径和高度比最大直径和高度小至少20％。 

为工件的等离子体处理，特别为实施以上确定的方法设置一相应的设备，其包括一反应器室、一在反应器室中的处理区域、一用于反应器室中的处理区域的至少部分地抽成真空的装置、一用于向处理区域射进电磁能的装置以便在导入处理区域的过程气体中产生一等离子体的装置和一用于向处理区域导入过程气体的装置，其中将用于导入过程气体的装置和用于处理区域抽成真空的装置设置成使过程气体在操作中在处理区域的对置的两端之间流过处理区域，其中利用一工件， 该工件具有一第一圆柱形的或圆柱似的表面和一个圆柱形的或圆柱似的成型部，该成型部具有较小的直径和较小的长度以及一第二圆柱形的或圆柱似的表面，其中成型部的直径和高度比最大直径和高度小至少20％，并且包括一用于在与反应器室分开的室中产生辉光放电的装置，以便在应触发等离子体的处理区域内提供激发的形态。同时用于抽成真空的装置也用于排出过程气体。 

利用本发明优选处理这样的工件，其至少在一局部的区域内具有介电的特性。由此达到，电磁辐射可以不通过工件的导电的表面被屏蔽。 

可以只在空心体的工件的内面上或只在外面上实施等离子体处理。同样也可以进行两面的等离子体处理，亦即不仅空心体的内面上而且在其外面上进行处理。其中等离子体处理在空心体的内面上和外面上有利地也可以是不同的或不同地产生对表面的作用。这通过在周围和空腔中导入不同的过程气体是例如有可能的。