[发明专利]用于共同光数据存储介质凹陷深度的介质、系统和方法有效

专利信息
申请号: 200680038070.X 申请日: 2006-10-11
公开(公告)号: CN101288120A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 尼尔斯·豪斯坦;克雷格·A·克莱因;丹尼尔·J·威纳斯基 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G11B7/013 分类号: G11B7/013;G11B7/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 周少杰
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 共同 数据 存储 介质 凹陷 深度 系统 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及光介质,并且更具体地涉及在光介质中制造的凹陷深度。

背景技术

如致密盘(“CD”)、数字多功能盘(“DVD”)、DVD只读存储器(“DVD-ROM”)、高清晰度DVD-ROM(“HD-DVD-ROM”)、可写DVD和HD-DVD介质、蓝光ROM、蓝光可写介质等的光数据存储介质,存储使用辐射光束(如激光二极管的发射)而取出(retrieve)的数字数据。图1是图示用于光数据存储介质130的光数据存储设备100的一个实施例的示意图。设备100包括光模块105、支臂100、光头115、箝位轴120、轴马达125、以及光数据存储介质130。

光数据存储介质130(此后称为“盘”)可移除地安装在箝位轴120上。轴马达125旋转盘130。支臂110定位光头115以从盘130取出数据。在一个实施例中,光模块105包括相对于盘130径向传送支臂110和光头115的音圈马达。盘130通过轴马达125的旋转和光头115的径向运动的组合可以将光头115定位在用于数据存储的盘130的任何部分上。

图2是图示图1的光数据存储设备100的光径200的一个实施例的示意图。图1的光头115、支臂100和光模块105可以包括光径200。光径200包括支架212、一个或多个透镜214、222、228、234、250,反射镜216、支臂路径218、一个或多个光检测器220、238、240、第一分束器224、圆化器(circularizer)226、激光二极管230、多个数据盘面(data surface)滤光器232、第二分束器244、半波片242、极化分束器236、散光透镜246、焦点致动马达256、以及四边形(quad)光检测器248。图1的盘130上还绘有多个数据盘面205和多个间隔层210。

激光二极管230可以是生成主辐射光束252的砷化镓铝激光二极管。在一个实施例中,辐射光束252在630nm到670nm的范围内。在替代实施例中,辐射光束252在385nm到425nm的范围内。辐射光束252由第三透镜228准直,并且由可以是圆化棱镜的圆化器226形成圆形。辐射光束252穿过第一分束器224。光束252的一部分由第一分束器224反射到第二透镜222和第一光检测器220。第一光检测器220监视辐射光束252的功率。

辐射光束252的剩余部分穿过支臂路径218到达反射镜216。支臂路径218可以是在图1的光模块105中驻留的第一分束器224与可在图1的光头115中驻留的反射镜216之间的可变长度光径。光束252由反射镜216反射,并且穿过第一透镜214和多个数据盘面像差补偿器250,并且聚焦在盘130的数据盘面205之一上。如所示,辐射光束252聚焦在第二数据盘面205b上。

第一透镜214安装在支架212中。支架212的位置由可以是音圈马达的焦点致动马达256相对于介质12调整。焦点致动马达256可以将第一透镜214相对于盘130定位,以将光束252聚焦在任何一个数据盘面205上。

辐射光束252的部分可以在数据盘面205反射作为反射光束258。反射光束258通过补偿器254和第一透镜214返回,并且由反射镜216反射。在第一分束器224,反射光束258通过多个数据盘面滤光器232反射。反射光束258穿过多个数据盘面滤光器222并且传到第二分束器244。

在第二分束器244,反射光束258的第一部分被导向散光镜246和四边形光检测器248。四边形光检测器248被划分为四个相等的部分。四边形光检测器248响应于反射光束258检测并提供焦点跟踪信息。当辐射光束252聚焦在数据盘面205上时,反射光束258聚焦在具有圆形截面部分的四边形光检测器248上,四边形光检测器248的各部分的每个接收基本相等的辐射。

如果辐射光束252没有聚焦在数据盘面205上,则反射光束258聚焦在具有椭圆截面部分的四边形光检测器248上。结果,一个或多个四边形光检测器248部分接收比其他部分更多的辐射。辐射光束252的焦点误差从由各部分接收的辐射的差估计,并且光模块105可校正该焦点。例如,焦点致动马达256可响应于四边形光检测器248上的反射光束258辐射模式,定位支架212和第一透镜214以聚焦辐射光束252。

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