[发明专利]制造磁记录介质的方法、磁记录介质及磁读/写装置无效
申请号: | 200680039768.3 | 申请日: | 2006-11-07 |
公开(公告)号: | CN101297358A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 坂胁彰 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G11B5/70;G11B5/73;G11B5/82 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 记录 介质 方法 装置 | ||
1.一种制造具有主表面的磁记录介质的方法,在所述主表面上按基本上同心的排列来设置磁道,且在所述主表面上形成用于将径向相邻的磁道相互磁性分离的沟槽,
所述方法的特征在于,在平坦的基底上形成至少磁记录层以制造工件,然后将具有与所述沟槽对应的突起的压模压在所述工件的主表面上,以便将所述突起的形状转移到所述工件并在所述磁道之间形成沟槽。
2.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述突起的顶端具有满足关系式0.75W≤R≤1.25W的曲面,其中R为所述曲面的曲率半径,且W为所述突起的宽度。
3.根据权利要求1或2的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述沟槽具有50到100nm的深度。
4.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,制造其中在所述基底上形成所述磁记录层且在所述磁记录层上形成保护层的工件,然后将所述压模压在所述工件的所述主表面上。
5.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,将所述压模压在所述工件的所述主表面上,然后在所述磁记录层上形成保护层。
6.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,将所述压模压在所述工件上,直到将所述突起的形状转移到所述基底。
7.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,将所述压模压在所述工件上,直到所述磁记录层的厚度在所述沟槽的底部处变薄。
8.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,将所述压模压在所述工件上,直到所述磁记录层在所述沟槽的底部处断开。
9.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述磁记录层具有垂直磁各向异性。
10.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,在所述基底和所述磁记录层之间设置取向层。
11.根据权利要求10的制造磁记录介质的方法,其特征在于,在所述基底和所述取向层之间设置软磁性层。
12.根据权利要求1的制造磁记录介质的方法,其特征在于,所述基底由选自塑料、玻璃和铝合金的材料制成。
13.一种具有主表面的磁记录介质,在所述主表面上按基本上同心的排列来设置磁道,且在所述主表面上形成用于将径向相邻的磁道相互磁性分离的沟槽,
所述介质的特征在于,在其中已形成沟槽的基底具有在其上形成的至少磁记录层以及在所述磁记录层上方的保护层,并且所述磁记录层具有较小的厚度或者在所述沟槽的底部处断开。
14.权利要求13的磁记录介质,其特征在于,所述沟槽的底部具有满足关系式0.75W’≤R’≤1.25W’的曲面,其中R’为所述曲面的曲率半径,且W’为所述沟槽的宽度。
15.权利要求13的磁记录介质,其中所述磁记录层在所述沟槽的底部处具有小于等于2nm的厚度。
16.一种磁读/写装置,包括磁记录介质和磁头,所述磁头将磁信号写入所述磁记录介质并从所述磁记录介质中读出磁信号,
所述磁读/写装置的特征在于,所述磁头是单磁极磁头,且所述磁记录介质是权利要求13或14的磁记录介质。
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