[发明专利]清洁片材，附有清洁功能的输送构件及基板处理装置的清洁方法

权利要求书

1.一种清洁片材，其中，

包含：算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下且具有最大高度Rz为1.0μm 以下的凹凸形状的清洁层。

2.根据权利要求1所述的清洁片材，其中，

上述凹凸形状为槽构造。

3.根据权利要求1或2所述的清洁片材，其中，

对应每1mm²上述清洁层的平面的实质表面积为对应每1mm²硅片镜 面的平面的实质表面积的150％以上。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的清洁片材，其中，

上述清洁层的拉伸弹性模量为0.98MPa～4900MPa。

5.一种附有清洁功能的输送构件，其中

包含：输送构件、设置在该输送构件的至少一面的权利要求1～4中 任意一项所述的清洁层。

6.根据权利要求5所述的附有清洁功能的输送构件，其中，

上述清洁层直接贴附在上述输送构件。

7.根据权利要求5所述的附有清洁功能的输送构件，其中，

上述清洁层隔着感压粘接剂层贴附在上述输送构件。

8.一种基板处理装置的清洁方法，其中，

包括：将权利要求1～4中任意一项所述的清洁片材或权利要求5～7 中任意一项所述的附有清洁功能的输送构件输送至基板处理装置内的步 骤。