[发明专利]带有薄膜的透明衬底和使用这类带有薄膜的透明衬底用于制造带有电路图案的透明衬底的方法无效

专利信息
申请号: 200680040301.0 申请日: 2006-10-25
公开(公告)号: CN101297380A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 佐藤了平;中川浩司;森永英二;臼井玲大;矶野贵充;田中健治;高木悟;江畑研一;坂本宽 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01J11/00;H01B13/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 染晓广;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 带有 薄膜 透明 衬底 使用 这类 用于 制造 电路 图案 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种带有薄膜的透明衬底和一种利用其用于制造带有电路图案的透明衬底的方法,所述薄膜含有氧化锡作为主要组分。

背景技术

由其上带有由薄膜形状的金属或绝缘体制成的电路图案的衬底组成的电子电路衬底已经被用于计算机、通讯、信息家用电器、各种显示设备等。

此外,近些年来对于平板显示器(FPD)如等离子显示器和液晶显示器的需求一直在增长,需要形成透明薄膜电极电路图案。

为形成这类电路图案,通常使用一种利用光刻/蚀刻工艺的方法。在该方法中,在衬底的全部或部分表面上形成用于形成电路图案的薄膜。之后施加/干燥抗蚀剂以形成抗蚀层。

将该抗蚀层暴露于穿过掩模的光下并且显影以形成与所述电路图案相反的电路图案(翻转电路图案)。此后,所述方法包括蚀刻并且除去抗蚀层以形成所需的电路图案。该方法在适用于大规模生产方面表现优异,因为它具有令人满意的图形成精确度以使得相同的图可以被重复生产许多次,并且因为可以在相同的衬底上形成两个或多个电路图案。

然而,使用光刻/蚀刻工艺的该方法是一种其中通常要重复进行许多步骤以完成电路的方法。具体地说,在衬底上形成金属薄膜,然后之后形成抗蚀层,随后是曝光、显影、蚀刻和除去抗蚀层。此外,在形成绝缘层后,进行抗蚀层的形成、曝光、显影、蚀刻和除去抗蚀层。

因此,每次当形成由金属薄膜和绝缘层构成的电路图案时,所述方法需要极其大量的步骤,包括形成薄膜、施加抗蚀剂、干燥、曝光、显影、蚀刻和除去抗蚀层。因此,存在使用所述方法会导致非常高的生产成本的问题。

此外,在该方法中,各组这类多个步骤将使用大量的显影液、化学品如蚀刻剂和洗涤液。这不但会导致较差的产率和生产成本的显著增加,而且会造成如下问题,即该方法产生沉重的环境负担,例如近来已经引起了严重关注的废液处理事宜。

此外,根据用于所述金属薄膜等的材料的种类,使用蚀刻剂等进行的蚀刻是困难的。因此,适用于所述光刻/蚀刻工艺的材料已经被限制在对蚀刻具有优异适应性的特定材料。

具有这些不同问题的常规方法的实例包括使用专利文献1和2所述的激光制图的下列方法。

专利文献1公开了一种形成薄膜图的方法,所述方法使得可无误地进行制图且不使用湿处理,并因此实现薄膜电路图案的精制,缩短并简化了所述处理。该形成薄膜图的方法的特征在于在衬底表面形成图样的模板,然后将所要形成的薄膜沉积于带有所述模板的衬底上,用能量束从所述衬底的背面辐照并且除去所述模板以在所述薄膜上制图。

专利文献2公开了一种用于生产液晶显示器元件的方法,所述方法包括进行抗蚀薄膜的显影,除去残余的抗蚀剂,并且各自通过完全的干处理来处理金属薄膜或半导体薄膜或绝缘体薄膜。该生产方法的特征在于:在玻璃衬底上施加由含有氨基甲酸乙酯键和/或脲键的聚合物材料构成的抗蚀剂薄膜,所述玻璃衬底上含有用于构成液晶显示器元件的选自金属薄膜、绝缘介质薄膜和半导体薄膜的薄膜或含有由这类薄膜组成的部分图案化的和多层的多层薄膜;用穿过具有给定镂空图案的掩模的准分子激光辐照抗蚀薄膜,以通过烧蚀现象除去所述抗蚀薄膜的辐照过的区域并且从而形成抗蚀薄膜电路图案,其中所述薄膜是根据所述掩模的镂空图案来曝光的;蚀刻并除去在所述抗蚀薄膜图案中曝光的薄膜;然后用准分子激光辐照残余的抗蚀薄膜以通过烧蚀现象来除去所述抗蚀薄膜。

专利文献1:JP-A-6-13356

专利文献2:JP-A-10-20509

发明内容

本发明要解决的问题

在利用这种使用激光的图案化方法来形成用于FPD等的透明薄膜电极的电路图案的情况下,可以使用氧化锡作为用于所述透明薄膜电极的材料。

然而,当在透明衬底上形成含有氧化锡作为主要组分的薄膜并且使用常用的波长1,064nm的YAG激光(在下文中,术语“YAG激光”总是指波长为1,064nm的那些)辐照以图案化所述薄膜时,通常存在的问题是所述激光大部分都穿过了所述薄膜,使得不能进行有效的具有令人满意的再现性的图案化。此外,存在的问题在于,如果为进行加工而增加激光能量,则所述透明衬底如玻璃会被损坏。

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