[发明专利]具有改进的耐化学性的多层可成像元件

权利要求书

1.一种正性工作的可成像元件，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面的基板，并且在该基板上依次包括：

内层，其含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合材料中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：

CH₂＝C(R¹)C(＝O)NR²(CR³R⁴)_nOH

(I)

其中R¹，R²，R³和R⁴独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20，以及

吸油墨的外层，该层基本不含所述吸收辐射的化合物且在热成像前不会被碱性显影剂除去，

条件是在热成像后，所述元件的成像区域可由碱性显影剂去除。

2.权利要求1的可成像元件，其中所述内层的聚合材料是由以下结构式(II)表示：

-(A)_x--(B)_y--(C)₂-

(II)

其中A表示由以下结构式(Ia)表示的重复单元：

B表示含有酸性官能团或N-顺丁烯二酰亚胺基团的重复单元，C表示与A和B不同的重复单元，基于总的重复单元，x是1～50mol％，y是40～90mol％，以及z是0～70mol％。

3.权利要求2的可成像元件，其中基于总的重复单元，x是10～40mol％，y是40～70mol％，以及z是0～50mol％。

4.权利要求2的可成像元件，其中：

A表示衍生自N-羟甲基丙烯酰胺和N-羟甲基甲基丙烯酰胺中的一种或两种的重复单元，

B表示衍生自N-苯基顺丁烯二酰亚胺，N-环己基顺丁烯二酰亚胺，N-苄基顺丁烯二酰亚胺，N-(4-羧基苯基)顺丁烯二酰亚胺，(甲基)丙烯酸，以及乙烯基苯甲酸中的一种或多种的重复单元，

C表示衍生自苯乙烯类单体，甲基(丙烯酸)酯，N-取代的(甲基)丙烯酰胺，顺丁烯二酸酐，(甲基)丙烯腈，丙烯酸烯丙酯，以及由以下结构式(III)表示的化合物中的一种或多种的重复单元，

其中R为氢，甲基或卤素，X是具有2～12个碳原子的亚烷基，以及m是1～3，

基于总的重复单元，x是10～40mol％，y是40～70mol％，以及z是0～50mol％。

5.权利要求4的可成像元件，其中B表示基于总重复单元的含量为20～50mol％的衍生自N-苯基顺丁烯二酰亚胺，N-环己基顺丁烯二酰亚胺，N-苄基顺丁烯二酰亚胺，N-(4-羧基苯基)顺丁烯二酰亚胺中的至少一种以及含量为10～30mol％的衍生自(甲基)丙烯酸和乙烯基苯甲酸中的至少一种的重复单元。

6.权利要求4的可成像元件，其中C表示衍生自甲基丙烯酰胺，(甲基)丙烯腈，顺丁烯二酸酐，或

的重复单元。

7.权利要求1的可成像元件，其中所述外层包含苯酚类树脂及任选的至少0.1重量％的溶解抑制剂。

8.权利要求7的可成像元件，其中所述苯酚类树脂是酚醛树脂，所述溶解抑制剂的含量是0.5-30重量％。

9.权利要求7的可成像元件，其中所述苯酚类树脂含有极性基团。

10.权利要求1的可成像元件，其中所述吸收辐射的化合物排他性存在于所述内层中，其含量至少为10重量％。

11.权利要求10的可成像元件，其中所述吸收辐射的化合物为吸收红外辐射的化合物，其为具有消光系数在700～1200nm的颜料或IR染料。

12.权利要求1的可成像元件，其中所述内层具有的干涂层重量为0.5～2.5g/m²，且外层具有的干涂层重量为0.2～2g/m²。