[发明专利]用于真空测量计的遮蔽装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有遮蔽装置的真空测量计。 

背景技术

全真空测量计被用于测量在真空室中的总压力。真空测量计被应用于监控不同的真空过程。在这种情况下，典型的真空过程是表面处理过程，例如涂装方法和腐蚀方法。这样的方法例如工作在从10^-5mbar到100mbar的压力范围。通常这样的压力范围要利用所谓的Pirani(皮拉尼)真空测量计或者所谓的膜片式真空测量计测量。在这种情况下存在这样的问题，即过程气体，不过也包括残余气体成分，可能在过程中污染真空传感器。结果可能是在这种情况下产生不准确或者错误的测量或者说压力显示。真空测量计在这种情况下显示出相应于其所经历的过程时间的漂移特性，这种漂移特性被不能通过清洁真空测量计或者其周围环境而消除或者重新复原。膜片测量计对于可能的污染特别敏感。在这样的膜片测量计中，薄的膜片根据存在的待测量压力发生偏移。该膜片的偏移被测量并用作要测量的真空压力的量度。对于电容式膜片测量计，膜片的偏移通过膜片和实体之间的电容的变化测量。对于光学的膜片测量计，该偏移利用光学的方法获取，例如利用干涉的方法。为了能够以高的敏感性测量这样的压力范围，膜片在这种情况下必须构造得非常薄，例如在从50到760μm的范围内。这些薄的膜片的例如通过气体和/或微粒的污染可能在膜片上导致拉应力和/或压应力，它们附加地影响膜片的变形，并且结果导致对例如要测量的绝对值的错误测量或者导致不希望地在时间上的漂移特性。在这种情况下，此外降低了测量计的分辨率以及由此降低了精度，并且另一方面不能保证测量结果的可重复性。为了减小这样的污染，到现在为止使用了扁平的遮蔽件，在专业领域也称为挡板，如它在图1中示出的电容式膜片式真空测量计的例子中一样。真空测量计15由扁平的圆形的第一壳体部分1和扁平的圆形的第二壳体部分4组成，其中在这两个壳体部分之间通过密封件3，例如玻璃焊剂，密封地连接膜片2， 这样在膜片和两个壳体部分之间分别构成一个空腔9、10。其中一个空腔构成参考真空室10，它通过连接部13与收气室12连通。在收气室13中布置有吸气剂11，它用于可靠地保证参考真空。在参考真空室10对面，在膜片2的另一侧构成测量真空室9，它通过排出开口16与其中布置有遮蔽件7的遮蔽壳体6连通，其中遮蔽壳体例如通过连接套管5与真空测量计15相应地连接。在遮蔽壳体6上布置有带有连接开口22的连接法兰8，它可以与要测量的真空处理室连接。在这种情况下连接开口22这样布置，即相对真空测量计的排出开口16，遮蔽件7不能允许直接透视：就此遮蔽件7应该发挥它的保护作用，由此不希望的气体或者说微粒凝结在遮蔽件表面上，这样它们不再达到真空测量计中。在专业文献中该遮蔽件经常也称为等离子体屏蔽体。对于包含反应气体的过程，这种反应气体应该优选凝结在遮蔽件上。借此应该减小传感器漂移并由此增加测量计的寿命。尽管这个扁平的遮蔽件改善了测量计的寿命，但是不能阻止仍有一定的微粒部分绕过遮蔽件，例如通过扩散过程被输送达到测量膜片并在那里影响测量。 

发明内容

本发明的任务在于，消除现有技术的缺点。本发明的任务特别在于，特别对膜片测量计实现一种用于真空测量计的遮蔽装置，它有力地减小真空测量计的污染，以由此在保证真空测量的高的测量精度和可重复性的情况下明显提高测量计的寿命。此外该遮蔽装置可经济地生产并可以简单地清洁。