[发明专利]在印刷机处理期间用于探测在印刷基质上印刷错误发生的方法无效

专利信息
申请号: 200680044225.0 申请日: 2006-11-21
公开(公告)号: CN101316709A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 福尔克尔·洛威格;约翰尼斯·G·舍德;托马斯·蒂尔克 申请(专利权)人: 卡巴-乔利有限公司
主分类号: B41F33/00 分类号: B41F33/00
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人: 张瑾;王黎延
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 印刷机 处理 期间 用于 探测 印刷 基质 错误 发生 方法
【权利要求书】:

1.一种在印刷机处理期间用于探测在印刷基质上印刷错误发生的方法,包括步骤为:在印刷基质处理期间,在印刷机功能部件上设置多个传感器以监控印刷机性能,并对印刷机性能进行线性分析,以确定印刷机特征性能的发生,其中这种特征性能导致或者可能导致在印刷基质上发生印刷错误,或者导致或者可能导致印刷基质良好印刷质量。

2.根据权利要求1的方法,其中所述印刷机性能的线性分析包括在若干连续的印刷基质处理期间进行印刷机性能的趋势分析。

3.根据权利要求1或者2的方法,其中所述印刷机性能的线性分析包括进行印刷机性能的模糊模式分类。

4.根据前面权利要求任何之一的方法,还包括把印刷机性能的线性分析与印刷基质的线性光学检查结合。

5.根据权利要求4的方法,其中所述印刷基质的所述线性光学检查包括:

(i)光学上获得在印刷机上处理的印刷基质的图像;以及

(ii)处理获得的印刷基质的图像,以便识别在所述印刷基质上可能发生的印刷错误,

并且其中所述印刷机性能的线性分析与印刷基质线性光学检查结合,由此在确定印刷机故障或者异常性能后及早发布出现印刷错误的可能性,同时仍然确定获得的图像以消除印刷错误。

6.根据权利要求4的方法,其中所述印刷基质的所述线性光学检查包括:

(i)光学上获得在印刷机上处理的印刷基质的图像;以及

(ii)处理获得的印刷基质的图像,以便识别在所述印刷基质上可能发生的印刷错误,

并且其中所述印刷机性能的线性分析与印刷基质线性光学检查结合,由此提供通过印刷基质光学检查探测的印刷错误发生的可能原因的指示。

7.根据前面权利要求任何之一的方法,其中印刷机性能的所述线性分析包括的步骤为:

(a1)在印刷机上感测在印刷基质处理期间印刷机功能部件的操作参数,该操作参数表示在印刷基质处理期间印刷机的性能;以及

(a2)确定感测的印刷机功能部件的操作参数是否表示可能导致印刷错误的印刷机故障或者异常性能。

8.根据权利要求7的方法,还包括预备步骤(a0),即利用印刷机功能部件的操作参数对印刷机特征性能模型化,以作为所述特征性能的特征参数,所述特征性能包括:

导致或者可能导致印刷错误发生的印刷机的故障或者异常性能;和/或

导致或者可能导致印刷基质良好印刷质量的印刷机正常性能,

其中所述确定步骤(a2)包括:

(a21)在印刷机上监控在印刷基质处理期间印刷机功能部件的操作参数;以及

(a22)确定监控的操作参数是否表示为印刷机模型化特征性能中任何之一。

9.根据权利要求8的方法,其中所述预备步骤(a0)包括对导致或者可能导致印刷错误发生的印刷机故障或者异常性能模型化,并包括以下步骤:

(a01)定义可在所述印刷机上发生的多个类别印刷错误;

(a02)对于每个类别印刷错误,确定印刷机的这样的操作参数,其中该操作参数表明导致或者可能导致印刷错误发生的印刷机故障或者异常性能;以及

(a03)对于每个类别印刷错误,根据被确定为表示所述故障或者异常性能的操作参数,定义印刷机故障或者异常性能的对应模型,

并且其中所述确定步骤(a22)包括确定监控的操作参数是否显示与定义的印刷机故障或者异常性能定义模型任何之一的对应关系。

10.根据权利要求8或者9的方法,其中印刷机特征性能的所述模型化包括借助于模糊逻辑规则组来对所述特征性能的模型化。

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