[发明专利]真空装置用闸阀

说明书

技术领域

本发明涉及用于真空装置的闸阀，具体涉及蒸镀装置的电子枪用 闸阀。

背景技术

在制造半导体、薄膜、液晶等时使用的真空装置中，使用开放、 关闭各真空室间的闸阀。

现有技术中，已知有各种真空装置用闸阀。例如，有在闭阀时使 用膨胀密封件(インフラ一トシ一ル)来提高密封性的阀(例如参照 专利文献1、2)或摆式阀等。

图5、图6表示摆式阀的一例。该现有的摆式阀200从正面看时， 在阀箱202的侧壁202b上形成开口204b(图6)。

另外，该阀200从侧面看阀箱202内部时，具有：在其相向的侧 壁202a、202b间形成的阀室215；设在其内部的摆形阀体203；密封 环205。在该相向的侧壁202a、202b上形成开口204a、204b。在密 封环205上安装环状的密封件206、207(图5)。

当开阀状态的阀200闭阀时，利用空气压力驱动阀箱202侧方的 空气促动器209，使促动器轴208转动而使摆形的阀体203移动到作 为闭阀位置的开口204a之前。然后，利用空气压力驱动气缸211来使 轴210动作，将密封环205压向阀体203，由此在阀箱202内部，由 密封件207将开口204b周围的内壁面和密封环205之间密封，由密封 件206将阀体203的表面和密封环205间密封。其结果，形成为开口 204a和开口204b间被遮断。

在此，在作为一个真空装置的真空蒸镀装置中，在装置的真空槽 内加热金属、金属氧化物、金属化合物等的蒸镀材料并使之蒸发(参 照图7)。此时，从蒸发源产生的蒸镀材料的蒸气侵入到电子枪252内， 存在难以长时间持续产生稳定的电子束的问题，虽然试验了种种对策 但仍未得到解决。

例如，如图7的真空蒸镀装置所示那样具有在电子束的出口孔附 近排气的排气机构，或者虽未图示但在电子束的出口孔的前方设置捕 获蒸镀材料的蒸气的收集器(参照专利文献3)。

但是，在MgO的场合，蔓延激烈而得不到充分的效果。另外， 即使临时防止蒸镀材料的蒸气侵入电子枪，也必须进行灯丝的更换等 定期维护保养。

专利文献1：(日本)特开2000-145980号公报(第3页、图1)

专利文献2：(日本)特开2004-360754号公报(第4页、图1)

专利文献3：(日本)特开平7-58832号公报(第4页、图1)

对于作为上述真空装置一例的串联式MgO蒸镀装置，实施2周 以上的连续运行。另外，对于具有MgO自动供给机构的装置，也可 以进行1个月的连续运行。但是，电子枪的灯丝、阴极等的消耗部件 大约每2～3周必须进行更换。或者在发生偶然的故障时，只把电子枪 部形成为大气压而进行维护保养。在此，在电子枪部和蒸镀室之间设 置闸阀，在更换时通过关闭该闸阀而只把电子枪部形成大气压就可以 进行维护保养，这样可把蒸镀室保持为真空状态，所以可期待大幅缩 短再开始运行时的起动时间。

因此，在图7所示的串联式MgO蒸镀装置250的例子中，使用 现有的真空装置用闸阀200。

在图7中，在串联式MgO蒸镀装置250中，蒸镀室251利用连 接在排气口253上的图中未示出的排气装置(真空泵)，把其内部整体 保持成真空。

为了对图中的被蒸镀物280进行蒸镀处理，在装置本体下部与被 蒸镀物280相向的位置，配置有收容蒸镀材料(MgO)281的蒸发源 254。

另外，在蒸发源254的侧方，配置有对蒸镀材料281照射电子线 的作为加热源的电子枪252。

在此，在电子枪252的前面，作为隔离电子枪部和蒸镀室251之 间的阀，配置了真空装置用闸阀200。通过关闭该闸阀200，在保持蒸 镀室251真空的状态下，可对电子枪252进行维护保养。

进而，具有可连续运行的蒸镀材料的自动供给机构260。自动供 给机构260由以下的单元构成。MgO供给室(在真空中贮存MgO的 腔)261、MgO供料器(把MgO定量连续地供给蒸发源的机构)263 以及MgO投射器264。