[发明专利]发光器件用中空玻璃及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680051926.7 申请日: 2006-12-01
公开(公告)号: CN101336492A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: R·里斯 申请(专利权)人: 剑桥显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;C03C19/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 器件 中空玻璃 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及发光器件用中空玻璃及其制造方法。

背景技术

从例如PCT/WO/13148和US 4539507已知例如有机电致发光器 件的发光器件。图1中图解此类器件,其通常包括:衬底2;布置在 衬底2上的第一电极4,用于注入多个第一电荷;布置在第一电极4 上的第二电极6,用于注入与所述多个第一电荷相对的多个第二电荷; 布置在第一与第二电极之间的有机发光层8;和布置在第二电极6上 的密封物(encapsulant)10。在图1所示配置中,第二电极6和密 封物10是透明的,以便允许有机发光层8发出的光从中通过。这样 的配置称为顶发射器件。透明密封物的例子是玻璃外罩密封物,其 中玻璃片被布置在包含电极和发光层的发光结构上,该玻璃片中具有 空腔。可以以沉积在顶部电极的上表面上的薄膜密封物的形式提供其 它的封装层。

已知上述结构的变体。第一电极可以是阳极,第二电极可以是阴 极。或者,第一电极可以是阴极,第二电极可以是阳极。可以在电 极与有机发光层之间提供其它层以便帮助电荷注入和传输。此外,可 以在密封物10的空腔内布置吸气材料以便吸收任何水分和氧并从而 延长器件的寿命。

电极和发光层(和诸如上述电荷注入和传输层的任何附加层)组 成发光结构,其可以像素化以便形成包含多个发射像素的显示。像素 化显示的形成方法在本领域中众所周知。

图2示出图解在制造多个电致发光器件期间制作的一部分预制 件的简化示意图。该预制件包括公共衬底2,在该公共衬底上沉积了 多个阳极4、有机电致发光材料8、和阴极6以便形成多个发光结构。 公共密封物10布置在发光结构上并通过几道胶粘剂或焊料接附到衬 底2。密封物10包括具有在其中形成的多个空腔的薄片,所述空腔 对应于多个发光结构的位置。沿多个发光结构之间的线(图2中示 为虚线)折断预制件以便制造多个封装发光器件。可以提供更复杂 的密封结构(未示出)以便允许更容易地折断。例如,可以例如通 过凹槽提供低强度线,和/或可以在折断之前,在划线和折断工序中在 该配置上划线。

每个发光结构可以包括例如用于简易背光中的单个发射元件。或 者,每个发光结构可以包括多个用于形成显示的像素。

通过在衬底上沉积形成发光结构的层并随后将预制的封装片粘 附在上面来制造预制件。

图3示出预制封装片10的一部分,其包括透明材料片,该透明 材料片在其一侧具有多个用于容纳发光结构的空腔12。

图4中图解制造封装片的方法。通过在第一步骤100中蚀刻透明 片10形成空腔12。该蚀刻步骤通常通过喷砂执行,其在空腔12内部 形成基本不透明的磨砂面14。为了将磨砂中空玻璃变成透明中空玻 璃,化学铣削(mill)中空玻璃(步骤200),从而蚀刻除去磨砂表 面14以便形成具有透明表面16的空腔12。

上述制造方法的问题是化学铣削步骤非常昂贵。此外,因为化学 铣削工艺包括除去玻璃材料,所以最初要求提供较厚的玻璃片以便提 供具有保护最终产品中位于下面的发光结构的足够强度的封装片。此 外,铣削步骤中使用的化学制品有毒而且污染环境。

发明内容

本发明的目的是解决用于制造发光器件用透明中空密封物的目 前制造工艺的上述问题。

依照本发明的第一方面,提供了一种制造发光器件用透明封装片 的方法,该方法包括以下步骤:在透明材料片的一侧形成多个用于在 其中容纳发光结构的空腔,所述形成步骤在空腔中产生包含微裂纹的 磨砂表面;在所述磨砂表面上涂覆低粘度材料,由此在磨砂表面的微 裂纹中填充低粘度材料以便形成透明封装片。

依照本发明的第二方面,提供了一种发光显示用透明封装片,该 透明封装片包括在其一侧具有多个用于容纳发光结构的空腔的透明 材料片,所述空腔中具有磨砂表面,磨砂表面中具有微裂纹,并且透 明材料布置在磨砂表面上并填充磨砂表面的微裂纹由此使磨砂表面 透明。

就低粘度材料来说,我们意指这样一种材料,其具有足够低的粘 度而且具有足够低的与透明片材料的接触角、以便涂覆在磨砂表面并 填充磨砂表面中的微裂纹,由此使磨砂表面透明。

就微裂纹来说,我们意指导致磨砂表面的多个小裂纹、空腔、缺 陷、等等。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于剑桥显示技术有限公司,未经剑桥显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680051926.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code