[发明专利]具有多层薄膜的PDP滤光片及其制造方法

权利要求书

1.一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，该等离子体显示面板滤光片包含：

透明基板；

位于所述透明基板上的至少一个重复单元层，其包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层和金属薄膜层，并且堆叠各重复单元层；和

形成在所述至少一个重复单元层上部上的高折射率透明薄膜层；其中所述高折射率透明薄膜层由五氧化二铌(Nb₂O₅)组成，并且在氧气氛中使用靶材Nb₂O_x来涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.5至4.99范围内的值。

2.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中在氧气氛中使用靶材Nb₂O_x来涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.8至4.99范围内的值。

3.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属薄膜层由银和包括银的合金中的任意一种组成。

4.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属氧化物膜层由掺铝氧化锌(AZO)组成。

5.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述高折射率透明薄膜层的厚度介于25nm至33nm之间。

6.权利要求5的等离子体显示面板滤光片，其中所述高折射率透明薄膜层的厚度介于27nm与33nm之间。

7.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属氧化物膜层的厚度介于10nm与12nm之间。

8.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中：

提供至少两个重复单元层；

来自所述重复单元层的最接近透明基板的金属薄膜层和最远离透明基板的金属薄膜层的厚度介于10nm和12nm之间；以及

除了包括最接近及最远离所述透明基板的金属薄膜层的重复单元层之外，包括在其它重复单元层中的金属薄膜层的厚度介于11nm和14nm之间。

9.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中提供三个重复单元层，并且所述等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻介于0.9欧姆/平方和2.5欧姆/平方之间，光透射率介于71％和79％之间。

10.权利要求9的等离子体显示面板滤光片，其中所述等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻介于0.9欧姆/平方和1.1欧姆/平方之间。

11.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中提供四个重复单元层，并且所述等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻介于0.6欧姆/平方和1.2欧姆/平方之间，光透射率介于62％和72％之间。

12.权利要求11的等离子体显示面板滤光片，其中所述等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻介于0.7欧姆/平方和1.1欧姆/平方之间，光透射率介于63％与71％之间。

13.一种制造等离子体显示面板滤光片的方法，该方法包括：

在透明基板上堆叠至少一个重复单元层，所述至少一个重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层和金属薄膜层；和

在所述至少一个重复单元层的上部上堆叠高折射率透明薄膜层；

其中所述高折射率透明薄膜层由Nb₂O₅组成，并且在氧气氛中使用靶材Nb₂O_x涂覆Nb₂O₅，其中x表示一介于4.5至4.99范围内的值。

14.权利要求13的方法，其中所述金属薄膜层由银和包含银的合金中的任意一种组成。

15.权利要求13的方法，其中所述金属氧化物膜层由掺铝氧化锌组成。