[发明专利]具有多层薄膜的PDP滤光片及其制造方法

说明书

相关申请交叉引用

本申请要求2006年5月30日在韩国知识产权局申请的韩国专利申请第10-2006-0048495号的权利，其公开内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及等离子体显示面板(PDP)滤光片及其制造方法，更具体涉及具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，所述滤光片具有高折射率及光透射率，并且可提高生产设备的生产率。

背景技术

一般而言，在等离子体显示面板(PDP)装置中，氖气+氩气(Ne+Ar)、氖气+氙气(Ne+Xe)等气体被限制在一空间内，该空间由前玻璃板、后玻璃板和分隔玻璃板所覆盖。在这种情况下，对阳极和阴极施加电压，并发射出用作背光的荧光。

通常通过具有规则电压的连续脉冲来操作等离子体显示面板装置。此外，由于气体放电需要较高电压，例如数百伏特，所以通过放大图像信号来操作等离子体显示面板装置。有助于实现大尺寸显示装置的气体放电的特性可应用于等离子体显示面板装置的操作方法。于是，等离子体显示面板装置适用于大尺寸显示装置。在等离子体显示面板装置中，气体放电的发生是由于在电极上施加直流(DC)或交流(AC)电压所导致。在这种情况下，发射出紫外(UV)线，从而激发磷光体发射出可见光。但是，在等离子体显示面板装置工作时，发射出大量磷光体闪烁、电磁波及近红外线。此外，还产生由氦气(He)和氙气(Xe)发出的橙色光。于是，等离子体显示面板装置的色纯度(color purity)次于阴极射线管(CRT)的色纯度。

因此，为了克服上述缺点，在等离子体显示面板装置中使用等离子体显示面板滤光片，该滤光片可以屏蔽电磁波和近红外线、防止闪烁和/或改善色纯度。此外，由于等离子体显示面板滤光片安装在面板组合件的前部，所以等离子体显示面板滤波片还需要具有令人满意的透明度。产生电磁波的主要原因是驱动电路与交流电极之间流动的电流以及用于等离子体放电的电极之间的高电压。由这些原因产生的电磁波主要处于30～200MHz的频带内。通常，在可见光谱内保持高光透射率及低折射率的透明导电膜或导电网被用作电磁屏蔽层，用于屏蔽所产生的电磁波。

图1是说明根据现有技术的等离子体显示面板滤光片的截面图。

参考图1，根据现有技术的等离子体显示面板滤光片包含两个低反射膜110、透明基板120和涂覆层130。通常，低反射膜110的一侧用低反射率涂层处理，低反射膜110的另一侧涂覆粘着材料，以使低反射膜110与透明基板120易于粘结在一起。因此，在图1中，分别在低反射膜110的外侧用低反射率涂层处理，而在低反射膜110的面对透明基板120的内侧涂覆粘着材料。此外，必要时，在低反射膜110的一侧添加颜料(pigment)，以用于色彩校正。透明基板120是光透射率大于预定值的基板，且通常由透明玻璃组成。此外，涂覆层130形成在透明基板120的一侧，即面向等离子体显示面板模块前部的一侧，如图1所示。涂覆层130具有多层薄膜结构，其使等离子体显示面板滤光片能够屏蔽电磁波和具有令人满意的光透射率。因此，等离子体显示面板滤光片的特性可由所述多层薄膜的结构及组成来决定。

通常，等离子体显示面板滤光片可被划分为两个产品类别，其中一个产品类别要求薄膜电阻低于约1.5欧姆/平方，而另一产品类别要求薄膜电阻低于约2.5欧姆/平方。根据所有国家目前要求的安全标准，A类对应于薄膜电阻小于约2.5欧姆/平方的产品范围，B类对应于薄膜电阻小于约1.5欧姆/平方的产品类别。另外，多层薄膜中所包含的组件及层数随每一产品类别而变化。与薄膜电阻小于约2.5欧姆/平方的产品类别A相比，薄膜电阻小于约1.5欧姆/平方的产品类别B的光透射率较低、光反射率较高。与此相关，在目前广泛应用的等离子体显示面板滤光片中，当等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻低于约1.5欧姆/平方时，该等离子体显示面板滤光片具有插入四个银层的4-银(Ag)结构。当等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻低于大约2.5欧姆/平方时，该等离子体显示面板滤光片具有插入三个银层的3-银结构。

图2是说明现有技术的具有4-银结构的多层薄膜。参考图2，第一氧化物膜220、第二氧化物膜230及银(Ag)240被堆叠在透明基板210上。此外，为防止银240被第一氧化物膜220氧化，另一第二氧化物膜250被堆叠在银240上。此结构被堆叠四次，从而形成具有4-银结构的多层薄膜。

在上述多层薄膜中，需要堆叠多层第二氧化物膜250。因此，增加了所需的涂覆设备、生产成本及生产时间，进而降低了生产率。