[发明专利]具有薄膜图案层的基板的制造方法无效
申请号: | 200710003652.0 | 申请日: | 2007-01-23 |
公开(公告)号: | CN101231361A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 王宇宁;许艳惠;周景瑜 | 申请(专利权)人: | ICF科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/23 | 分类号: | G02B5/23;G02F1/1335;B41J3/407;B41M1/26 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 美国加州95054圣*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 薄膜 图案 制造 方法 | ||
1.一种具有薄膜图案层的基板的制造方法,其步骤如下:
提供一预成型的基板,其具有多个具有排斥墨水性能的挡墙,该多个挡墙间形成多个收容空间;
将含有可固化成分的墨水分别填充在该多个收容空间中,其中收容于各收容空间的墨水体积大于其所对应的收容空间的容积;及
固化墨水而使该墨水中的可固化成分在该收容空间中形成薄膜图案层。
2.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,所述的墨水中的可固化成分的体积小于该墨水的体积的一半。
3.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,收容在各个收容空间中墨水的体积是对应收容空间的容积的至少两倍。
4.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,所述的预成型的基板由以下分步骤制得:
提供一基板;
在该基板上涂布一光阻材料层;
采用光罩对该光阻材料层曝光;及
显影该光阻材料层而形成该多个挡墙。
5.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该预成型的基板是通过塑性成型的方法制得。
6.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该墨水是通过喷墨装置填充在该收容空间中。
7.如权利要求6所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于所述的喷墨装置包括热泡式喷墨装置或压电式喷墨装置。
8.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于所述的墨水是通过一抽真空装置、一加热装置或一曝光装置进行固化,或者同时采用上述三者方式的两种或三种进行固化。
9.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于填充在收容空间中的墨水具有一鼓起的液面。
10.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,进一步包括一步骤:在固化过程后,部分地去除基板上的多个挡墙。
11.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该墨水的可固化成份体积与该对应的收容空间的容积之比在65%-135%的范围。
12.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该墨水的可固化成份体积与该对应的收容空间的容积之比在80%-120%的范围。
13.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该薄膜图案层的体积与对应的收容空间的容积之比在50%至135%的范围。
14.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该薄膜图案层的体积与对应的收容空间的容积之比在70%至120%的范围。
15.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该薄膜图案层的厚度与对应的挡墙的高度之比在50%至135%的范围。
16.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于,该薄膜图案层的厚度与对应的挡墙的高度之比在70%至120%的范围。
17.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于墨水与对应挡墙之间的接触角大于15度且小于90度。
18.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于墨水与对应挡墙之间的接触角大于20度且65度。
19.如权利要求1所述的具有薄膜图案层的基板的制造方法,其特征在于所述挡墙由单层或多层结构组成。
20.一种具有薄膜图案层的基板的制造方法,其步骤如下:
提供一预成型的基板,其具有多个具有排斥墨水性能的挡墙,该多个挡墙间形成多个收容空间;
将含有可固化成分的墨水分别填充在该多个收容空间中,并使各收容空间中的墨水的可固化成份的体积与该收容空间的容积大致相同,其中收容于各收容空间的墨水体积大于其所对应的收容空间的容积;及
固化墨水而使该墨水中的可固化成分在该收容空间中形成薄膜图案层。
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