[发明专利]半导体装置及半导体封装结构有效

专利信息
申请号: 200710005832.2 申请日: 2007-02-25
公开(公告)号: CN101110401A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 卢思维;邹觉伦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L25/00;H01L25/065;H01L25/18;H01L23/488
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 封装 结构
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种半导体芯片,特别涉及一种半导体封装技术。

背景技术

图1为已知集成电路封装结构10的剖面示意图,例如Amkor揭示的塑料无引脚芯片封装结构(leadless plastic chip carrier,LPCC)。塑料无引脚芯片封装结构10包括暴露的芯片端(die paddle)12,与铜引脚架(leadframe)14连接。软焊料镀层(solder plating)16,形成于引脚架14下表面。银镀层(silverplating)18,形成于引脚架14上表面。半导体芯片,通过芯片附着材料层(dieattach material layer)20附着于银镀层18上。多条金焊线(wire bond),形成于芯片上表面与引脚架14之间,例如接地焊线(ground bond)22、下焊线(downbond)24及其他输入/输出焊线(I/O bond)26。封胶材料层(mold compoundlayer)28,包覆上述结构。之后,将塑料无引脚芯片封装装置连接至例如印刷电路板(printed circuit board,PCB)(未图示)。

图1的塑料无引脚芯片封装结构(LPCC)10会存在着因打线接合(wirebonding)而诱导产生的高寄生电感(parasitic inductance),特别是当与以下描述的倒装接合(flip chip bonding)技术比较时。寄生电感会冲击装置的效能,特别是射频(radio frequency,RF)装置。塑料无引脚芯片封装结构(LPCC)体积也较倒装封装结构大。此外,芯片与芯片焊盘(die pad)间的粘着性差,且打线接合焊盘(wire bonding pad)易在薄晶片去接合/移除过程中被污染。

业界对于如何提升集成电路运算速度与增加装置密度方面,一直有持续不断地研究与努力。结果开发出许多新的用来封装复杂高速集成电路的封装方法,其中之一即是关于已知“倒装”的封装技术,例如McMahon所公开的美国专利第6,075,712号。倒装封装技术的封装成本高,装置效能可获相当程度的改善。

一种先进的封装与内部接合(interconnect)方法是目前所需要的。

发明内容

为了解决上述问题,本发明提供一种半导体装置,包括:半导体基板,具有上表面与下表面,该上表面包含至少一装置区;至少一沟槽,从该基板下表面穿过该基板,并连接至该装置区;导电层,填入部分该沟槽;以及粘着层,沉积于该导电层上,并填满该沟槽。

根据本发明的半导体装置,还包括引脚架,通过该粘着层与该基板下表面连接。

根据本发明的半导体装置,还包括至少一伪沟槽,从该基板下表面至少穿过部分该基板,其中该导电层填入部分该伪沟槽,该粘着层填满该伪沟槽。

根据本发明的半导体装置,还包括:内连线结构,形成于该装置区上;至少一焊盘,形成于该内连线结构上,并与该沟槽电连接;第二半导体基板,具有上表面与下表面,该上表面包含至少一装置区,该第二半导体基板设置于该内连线结构上;至少一沟槽,从该第二半导体基板下表面穿过该第二半导体基板,并连接至该第二半导体基板的装置区;以及第二导电层,填入穿过该第二半导体基板的至少一沟槽,其中该焊盘与该第二导电层电连接。

根据本发明的半导体装置,还包括第二粘着层,设置于该焊盘与该第二导电层之间。

根据本发明的半导体装置,还包括至少一伪沟槽,至少穿过部分该第二半导体基板,该第二粘着层至少填入部分该至少之一伪沟槽。

根据本发明的半导体装置,还包括内连线结构,形成于该装置区上,其中该导电层与该内连线结构电连接。

根据本发明的半导体装置,还包括:内连线结构,形成于该装置区上;以及导线,穿过该基板,该引脚架的输入/输出端口通过该导线与一部分该内连线结构电连接。

本发明提供一种半导体装置,包括:半导体基板,具有上表面与下表面,该上表面包含至少一装置区;至少一伪沟槽,从该基板下表面至少穿过部分该基板;引脚架;以及粘着层,设置于该基板下表面与该引脚架之间。

根据本发明的半导体装置,还包括第二物质层,设置于该伪沟槽内,该粘着层设置于该第二物质层上。

根据本发明的半导体装置,其中该第二物质层填入部分该伪沟槽,该粘着层填满该伪沟槽。

根据本发明的半导体装置,其中该第二物质层包括铜,该粘着层包括软焊料或包含银的导电膏。

根据本发明的半导体装置,其中该粘着层至少填入部分该伪沟槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710005832.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top