[发明专利]一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法无效
申请号: | 200710009509.2 | 申请日: | 2007-09-12 |
公开(公告)号: | CN101122036A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 戴品强;许伟长;伍文杰;项忠楠 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12 |
代理公司: | 福州元创专利代理有限公司 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350002*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 强度 塑性 纳米 及其 制备 方法 | ||
1.一种高强度高塑性纳米镍的镀液,其特征在于:所述镀液的配方成分为:氨基磺酸镍Ni(SO3NH2)2·4H2O 400g/L-600g/L,氯化锰MnCl2·4H2O 10g/L-50g/L,氯化镍NiCl2·6H2O 10g/L-40g/L,硼酸H3BO3 30g/L-50g/L,十二烷基硫酸钠C12H25SO4Na 0.05g/L-0.1g/L,糖精C6H5COSO2NH2 2g/L-5g/L。
2.一种如权利要求1所述的高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述制备方法为:采用高纯度低硫电解镍作为阳极,抛光不绣钢片为阴极,用直流电沉积的方法制备,制备步骤为:
(1)按照所述镀液配方配制镀液;
(2)阳极预处理;
(3)阴极预处理;
(4)直流电沉积法制备高强度高塑性纳米镍镀层;所述电沉积的工艺参数为:电流密度5A/dm2-20A/dm2,阴极和阳极的面积比1∶3-1∶10,镀液温度控制在50℃-70℃之间,镀液PH值控制在3-4之间,采用磁力搅拌,电镀至所需要的镍镀层厚度;
(5)高强度高塑性纳米镍镀层后处理。
3.根据权利要求2所述的一种高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述阳极预处理为:去除镍板表面氧化物,对于重复使用的镍板在镍板表面出现严重孔洞表面时,使用砂轮打磨、铣床加工使其具有平整的表面,去除油质后应能显示出金属镍的银白色光泽。
4.根据权利要求2所述的一种高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述阴极预处理为:使用不导电的胶布将背对阳极一侧的不锈钢片表面封装,正对阳极的一面浸没丙酮除油时间为10min,之后使用质量分数为10%-15%的盐酸溶液进行活化处理,时间为3min-5min。
5.根据权利要求2所述的一种高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述纳米镍镀层后处理为:电镀结束后,取出不绣钢片,用清水冲洗干净,吹干;采用机械法将镀层从不绣钢板上剥离下来,即可获得纳米镍。
6.根据权利要求5所述的一种高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述机械法剥离为使用砂轮小心打磨去除镀层包裹在不绣钢片边缘的金属,以取下镀层,打磨时速度应较慢,避免摩擦产生的热量使镀层被加热。
7.一种如权利要求1、2、3、4、5或6所述的高强度高塑性纳米镍,其特征在于:所述纳米镍的晶粒尺寸在10nm-100nm之间,平均晶粒尺寸为25nm-27nm,厚度达200μm-300μm;所述纳米镍的镀层表面光亮,硬度为HV550-HV600,抗拉强度在1000MPa-1300MPa之间,断裂总伸长率为10%-13%。
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