[发明专利]一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法无效
申请号: | 200710009509.2 | 申请日: | 2007-09-12 |
公开(公告)号: | CN101122036A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 戴品强;许伟长;伍文杰;项忠楠 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12 |
代理公司: | 福州元创专利代理有限公司 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350002*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 强度 塑性 纳米 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于纳米材料领域,更具体涉及一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法。
背景技术
与同成分的传统微米晶金属材料相比,纳米金属材料具有很高的强度与硬度。人们对纳米材料合成与制备方法进行大量的研究,提出多种方法。其中电沉积方法具有工艺简单、设备投入少、制备的纳米材料致密度高、容易实现块体化生产等优点。将普通瓦特型镀镍镀液经过改良,加入少量添加剂(糖精、香豆素等),可电沉积得到纳米镍,这种纳米镍的特点是晶粒尺寸较均匀,平均晶粒尺寸约为20nm,晶粒尺寸分布较窄,一般在15nm-40nm,具有很高的强度,抗拉强度一般都在1000MPa以上,但其塑性很低(拉伸伸长率一般小于5%),无明显的加工硬化,容易引起变形集中,难以塑性加工成型,服役时偶然过载可能导致早期断裂。这严重影响了纳米金属材料的加工和应用。因此提高纳米金属材料的塑性,对纳米金属材料的加工和安全可靠应用具有重要的意义。近年来,人们发现微米晶-纳米晶混合组织可以在保持高强度的前提下,明显提高塑性。在电沉积纳米金属中为了获得这种组织,必须进行低温退火,但必须严格控制退火温度和时间,难以实际应用。
发明内容
本发明的目的是提供一种高强度高塑性纳米镍及其镀液和制备方法,本发明的新型镀液配方,通过适当的电沉积工艺,在沉积态即可获得一种独特的纳米晶组织,其晶粒尺寸范围较大,在10nm-100nm之间,具有这种组织的纳米镍同时具有很高的强度和塑性,而且制备方法简单易行,可操作性强。
本发明的高强度高塑性纳米镍的镀液,其特征在于:所述镀液的配方成分为:氨基磺酸镍(Ni(SO3NH2)2·4H2O)400g/L-600g/L,氯化锰(MnCl2·4H2O)10g/L-50g/L,氯化镍(NiCl2·6H2O)10g/L-40g/L,硼酸(H3BO3) 30g/L-50g/L,十二烷基硫酸钠(C12H25SO4Na)0.05g/L-0.1g/L,糖精(C6H5COSO2NH2)2g/L-5g/L。
本发明的高强度高塑性纳米镍的制备方法,其特征在于:所述制备方法为:采用高纯度低硫电解镍作为阳极,抛光不绣钢片为阴极,用直流电沉积的方法制备,制备步骤为:
(1)按照所述镀液配方配制镀液;
(2)阳极预处理;
(3)阴极预处理;
(4)直流电沉积法制备高强度高塑性纳米镍镀层;所述电沉积的工艺参数为:电流密度5A/dm2-20A/dm2,阴极和阳极的面积比1∶3-1∶10,镀液温度控制在50℃-70℃之间,镀液PH值控制在3-4之间,采用磁力搅拌,电沉积至所需要的镍层厚度;
(5)高强度高塑性纳米镍镀层后处理。
本发明的高强度高塑性纳米镍,其特征在于:所述纳米镍的晶粒尺寸在10nm-100nm之间,平均晶粒尺寸为25nm-27nm,厚度达200μm-300μm以上;所述纳米镍的镀层表面光亮,硬度为HV550-HV600,抗拉强度在1000MPa-1300MPa之间,断裂总伸长率为10%-13%。
本发明的显著优点是:采用新型镀液配方,采用氨基磺酸镍为主盐,具有低应力,电镀可施加电流较大,容易获得良好的镀层表面质量等优点,通过适当的电沉积工艺,在沉积态即可获得一种独特的纳米晶组织,其晶粒尺寸范围较大,在10nm-100nm之间。具有这种组织的纳米镍同时具有很高的强度和塑性,大大超过目前文献报道的纯纳米镍和微米晶-纳米晶混合组织纳米镍的强度和塑性,而且制备方法简单易行,可操作性强。
附图说明
图1是纳米镍镀层透射电镜显微组织图,其中,(a)部分为纳米镍镀层透射电镜显微组织,(b)部分为选区电子衍射谱。
图2是本发明的纳米镍拉伸曲线图。
具体实施方式
本发明是采用直流电沉积的方法,在氨基磺酸镍体系中电沉积纳米镍。镀液的组成为氨基磺酸镍,氯化锰,氯化镍,硼酸,十二烷基硫酸钠,糖精。本发明具体实施方法如下:
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