[发明专利]一种高磷Ni－P－SiC复合镀层及其制备工艺

权利要求书

1、一种高磷Ni-P-SiC化学复合镀层，其特征在于该镀层的化学组成和配比分别为：

主盐NiSO4·6H2O                20～30g/L

还原剂NaH2PO2·H2O             20～40g/L

主络合剂乳酸                   10～25g/L

辅助络合剂甘氨酸               5～15g/L

辅助络合剂EDTA                 5～15g/L

辅助络合剂柠檬酸               2～10g/L

加速剂丁二酸                   5～15g/L

缓冲剂乙酸钠                   10～20g/L

稳定剂碘酸钾                   0.03g/L

表面活性剂十二烷基苯磺酸钠     0～120mg/L

碳化硅                         0～12g/L。

2、一种高磷Ni-P-SiC化学复合镀层制备工艺，其特征在于在处理过的SiC中，加入少量的蒸馏水和表面活性剂，先用超声波分散0.5h，然后加入镀液中用电动搅拌器搅拌1～2h，将SiC溶液加入到镀液中配制复合镀液，磁力搅拌器的搅拌速度控制在200～500r/min之间，适度温度控制在84～93℃之间，pH值控制在4.8～5.7之间。