[发明专利]制纱片的制造工艺

权利要求书

1.制纱片的制造工艺，其特征在于：包括以下步骤——

①基材的选取：采用精轧光亮薄钢板作为基体材料，基体材料中含有利于氮化的合金成分，其合金成分总含量＞3％，薄钢板的厚度为0.05mm～0.2mm；

②加工：将基体按规格尺寸要求机加工成形；

③氮碳共渗：在500℃～580℃进行氮碳共渗处理工艺使工件表面获得0.01mm～0.02mm的渗层；

④校形：工件氮化后经清洗装夹在工装上，工装上具有导向作用的定位销对工件进行导向固定，工件夹紧后在真空状态下升温至540℃～600℃保温1.5小时～3小时随炉冷却，获得制纱片成品。

2.根据权利要求1所述的制纱片的制造工艺，其特征在于：步骤③所述的氮碳共渗为液体氮碳共渗，在500℃～580℃内进行液体氮碳共渗使工件表面获得0.01mm～0.02mm的渗层，再进行后续氧化处理，其温度350℃～370℃、保温时间15分钟～20分钟。

3.根据权利要求1所述的制纱片的制造工艺，其特征在于：步骤③所述的氮碳共渗为气体氮碳共渗，在500℃～580℃内进行气体氮碳共渗使工件表面获得0.01mm～0.02mm的渗层。

4.根据权利要求1所述的制纱片的制造工艺，其特征在于：步骤③所述的氮碳共渗为辉光离子氮碳共渗，在500℃～580℃内进行辉光离子氮碳共渗使工件表面获得0.01mm～0.02mm的渗层，表面硬度达到HV_0.11100以上。

5.根据权利要求2所述的制纱片的制造工艺，其特征在于：工件经过液体氮碳共渗和校形处理后，还对工件表面进行镀镍磷工艺处理或人工抛光处理。

6.根据权利要求3所述的制纱片的制造工艺，其特征在于：工件经过气体氮碳共渗和校形处理后，还对工件表面进行镀镍磷工艺处理或人工抛光处理。