[发明专利]一种青霉素衍生物的结晶体及其制造方法

权利要求书

1. 呋脲苄青霉酸晶体，其特征是使用Cu-Kα射线粉末衍射图，以2θ角、面间距d和相对强度I/I₀表征如下：

  2-theta  d-value  I/I₀  11.3000  7.8237±0.2  89  15.340  5.7711±0.2  53  17.120  5.1749±0.2  100  18.320  4.8385±0.1  49  19.320  4.5903±0.1  45  23.620  3.7635±0.1  59

                                                        。

2. 权利要求1所述的呋脲苄青霉酸晶体，其特征在于热重分析显示：在173±1℃开始大幅度重量减失，样品开始分解变化。

3. 权利要求1所述的呋脲苄青霉酸晶体的制备方法，其特征在于将呋脲苄青霉素酸溶液用碱液中和至PH＝7～8，反应产物转移至水相中，有机溶剂萃取去除杂质后；水相加入有机溶剂并酸化调PH＝2～2.5，反应产物转移到有机溶剂中，水洗除去水溶性杂质，真空浓缩至过饱和溶液，静止析晶。

4. 权利要求3所述的呋脲苄青霉酸晶体的制备方法，其特征在于所用碱为：碳酸氢钠、碳酸钠、氢氧化钠、醋酸钠、氨水、三乙胺、异辛酸钠等。

5. 权利要求3所述的呋脲苄青霉酸晶体的制备方法，其特征在于所用酸为：硫酸、盐酸、磷酸、醋酸等。

6. 权利要求3所述的呋脲苄青霉酸晶体的制备方法，其特征在于所用有机溶剂为烷烃类如二氯甲烷、二氯乙烷、正己烷、石油醚等；酮类如丙酮、丁酮；酯类如乙酸乙酯、乙酸丁酯；醚类如乙醚、异丙醚、四氢呋喃；醇类如甲醇、乙醇、异丙醇等。