[发明专利]一种硅胶版的制备工艺无效

专利信息
申请号: 200710028496.3 申请日: 2007-06-11
公开(公告)号: CN101323197A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 郑汉平 申请(专利权)人: 郑汉平
主分类号: B41C3/04 分类号: B41C3/04;B41D7/00;B29C35/02;B29C33/56;B29C43/02;B29C43/34;B29C43/52;B29B7/00
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地址: 518000广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅胶 制备 工艺
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种硅胶版的制备工艺,特别涉及一种烫金用立体硅胶模的制备工艺。

【背景技术】

烫金是利用烫印版的压力和热量,将烫金纸烫印在承应物上,因此烫金模制作的好坏是影响烫金效果的关键因素。目前的烫金都是采用平板烫金,即硅胶版上的铝板是平面的,这就要求承印物的整个烫印面的弧度不能太大(一般在8mm之内),否则就会出现烫金膜层粘结不牢固甚至图文残缺不全现象。也就是说当烫印物的烫印面是不规则或弧度较大时,传统的烫金模制作是不能做到的。

【发明内容】

针对上述存在的问题,本发明的目的是提供一种可用于不同弧度或不规则烫印面,烫印图文丰满、清晰、表面平整度高,效果好的烫金用立体硅胶版制作工艺。

为实现上述的目的,本发明的技术方案在于:一种硅胶版的制备工艺包括

1)模具的设计和加工

依据三维图雕刻成相应的套模,包括凹模和上模,凹模上模腔的形状为三维图样,上模为硅胶版的底板模。

2)套模的处理

A)上模处理液的配制

依次取15%-35%的乙烯基三乙氧基硅烷、15%-35%的无水乙醇、35%-60%的去离子水和1%-5%的浓度为1mol/dm3的盐酸搅拌混合,加完所有材料后,继续搅拌1-2小时待用。

B上模的处理

将上模的表面打磨平整并擦拭干净后,后将上模处理液涂在上模表面,在90-130℃下烘烤1-2小时待用;

C)凹模的处理

在凹模表面涂上硅油型脱模剂,加热,待脱模剂完全滋润凹模,如此重复两次。

3)硅胶的混炼

A称取原料

根据实际烫印需要的硬度,取0%-86%的R401/40S,9.5%-84%的R401/70S,0%-13%的气相二氧化硅,0.5%-4%的硫化剂。

B)混炼

首先将R401/70S或R401/70S与R401/40S的混合物混炼3-5分钟,待胶料不粘辊且柔软时加入硫化剂混炼5-20分钟,待硫化剂分散均匀,整个混炼的过程温度不超过40℃。

4)立体硅胶模的制造

A)凹模涂脱模剂后置于硫化剂的工作模板上,升温至150-200℃成形温度;

B)将凹模放入模腔底部,图案朝上;

C)取混炼胶加入凹模上面,再将处理过的上模处理面向下,压在加入了混炼胶的凹模上;

D)套膜两边要放上垫板,垫板高度比套膜高度高0-2mm;

E)合模,在2-6MPa的压力下排气2-3次,保压10-100分钟/mm;

F)取出成品,修边清理;

G)二次硫化:将成品置于鼓风烘箱中,升温至140-160℃硫化0.5-2小时,在升温至190-220℃硫化2-6小时,随烘箱降温即可。

本发明的优点为:由于通过立体套模以及其处理工艺可用于不同弧度或不规则烫印面,烫印图文丰满、清晰、表面平整度高,效果好的烫金用立体硅胶版制作工艺。

【具体实施方式】

下面结合实施例对本发明进行进一步的说明本发明的工艺过程。

本发明实施例一:

1)模具的设计和加工

依据三维图雕刻相应的套模,套模包括凹模和上模,凹模的上模腔的形状为相应的三维图样,上模为硅胶版的底板模。当产品的弧度小于8mm时,上模需做成平板模;当产品弧度大于8mm时,上模需做成相应的弧度模。当产品的弧度大于8mm时,如果要使用平板模来达到这个弧度,就必须随着弧度相应增加硅胶的厚度,而硅胶导热性不好,厚度不同,导热就不同,最终导致在烫印过程中烫印的整个图案受热不均匀,烫印效果受到严重影响;而现在做出相应的带有弧度的铝模,保证每个地方的硅胶厚度均匀,铝又有非常好的导热性,从而达到在烫印时整个硅胶版可以均匀受热,保证最好的烫印效果。

2)套模的处理

A)上模处理液的配制

依次取21%的乙烯基三乙氧基硅烷、23%的无水乙醇、55%的去离子水和1%的浓度为1mol/dm3的盐酸搅拌混合,加完所有材料后,继续搅拌1.6小时待用。

B)上模的处理

将上模表面打磨平整并擦拭干净后,将上模处理液涂在上模表面,在115℃下烘烤1.7小时待用;

C)凹模的处理

在凹模表面涂上硅油型脱模剂,加热,待脱模剂完全滋润凹模,如此重复两次。

3)硅胶的混炼

A)称取原料

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