[发明专利]测试基体、测试基体掩膜及测试基体的形成方法

权利要求书

1.一种测试基体，其特征在于：所述测试基体包含至少一个孤立测试单元系列，单一所述孤立测试单元系列包含至少两个孤立测试单元，所述孤立测试单元包含一个测试基元和两个测试辅助基元，所述测试基元与测试辅助基元间隔相接；

其中，单一所述孤立测试单元系列内，所述测试基元尺寸取至少一个固定值，且单一固定值对应至少两个尺寸渐变的所述测试辅助基元；或者，

单一所述孤立测试单元系列内，所述测试辅助基元尺寸取至少一个固定值，且单一固定值对应至少两个尺寸渐变的所述测试基元。

2.根据权利要求1所述的测试基体，其特征在于：所述孤立测试单元外围具有外围图形，所述外围图形内具有填充图形。

3.根据权利要求2所述的测试基体，其特征在于：所述填充图形内包含的材质与所述测试基元内包含的材质相同。

4.根据权利要求2或3所述的测试基体，其特征在于：同一所述孤立测试单元系列内，所述填充图形的图形密度相同。

5.根据权利要求2或3所述的测试基体，其特征在于：在不同所述孤立测试单元系列间，所述填充图形的图形密度不相同。

6.根据权利要求2或3所述的测试基体，其特征在于：对单一孤立测试单元，其外围的填充图形非均匀分布。

7.根据权利要求4所述的测试基体，其特征在于：所述填充图形的图形密度与所述测试基体模拟的产品的外围图形的图形密度之差小于25％。

8.根据权利要求1所述的测试基体，其特征在于：所述测试基体还包括至少一个连续测试单元系列，单一所述连续测试单元系列中包含至少两个连续测试单元，所述连续测试单元包含一个测试基元和一个测试辅助基元，所述连续测试单元系列内测试基元和测试辅助基元间隔相接；同一所述连续测试单元系列内不同连续测试单元包含的所述测试基元与所述测试辅助基元的尺寸之比相同，相邻的连续测试单元间所述测试基元和所述测试辅助基元的尺寸渐变。

9.根据权利要求8所述的测试基体，其特征在于：所述连续测试单元系列外围具有外围图形，所述外围图形内具有填充图形。

10.根据权利要求9所述的测试基体，其特征在于：在同一所述连续测试单元系列外围，各所述连续测试单元外围填充图形均匀分布。

11.根据权利要求9所述的测试基体，其特征在于：不同所述连续测试单元系列中连续测试单元所包含的所述测试基元或所述测试辅助基元尺寸之比不相同，且在各所述连续测试单元系列外围，各所述连续测试单元外围填充图形均匀分布。

12.根据权利要求9所述的测试基体，其特征在于：不同所述连续测试单元系列中连续测试单元所包含的所述测试基元或所述测试辅助基元尺寸之比相同，且在各所述连续测试单元系列外围，各所述连续测试单元外围填充图形的图形密度不相同。

13.根据权利要求1所述的测试基体，其特征在于：所述测试基体还包含至少两个连续测试单元系列，且单一所述连续测试单元系列中包含的测试基元与测试辅助基元的尺寸相同时，在不同所述连续测试单元系列中，测试基元或测试辅助基元的尺寸不相同。

14.根据权利要求13所述的测试基体，其特征在于：各所述连续测试单元系列外围填充图形的图形密度相同。

15.根据权利要求9或14所述的测试基体，其特征在于：对单一连续测试单元系列，其外围的填充图形非均匀分布。

16.一种测试基体掩模，其特征在于：所述测试基体掩模包含至少一个孤立测试单元系列掩模图形，单一所述孤立测试单元系列掩模图形包含至少两个孤立测试单元掩模图形，所述孤立测试单元掩模图形包含一个测试基元掩模图形和两个测试辅助基元掩模图形，所述测试基元掩模图形与测试辅助基元掩模图形间隔相接；

其中，单一所述孤立测试单元系列掩模图形内，所述测试基元掩模图形尺寸取至少一个固定值，且单一固定值对应至少两个尺寸渐变的所述测试辅助基元掩模图形；或者，

单一所述孤立测试单元系列掩模图形内，所述测试辅助基元掩模图形尺寸取至少一个固定值，且单一固定值对应至少两个尺寸渐变的所述测试基元掩模图形。