[发明专利]研磨垫的清洗方法无效
| 申请号： | 200710043864.1 | 申请日： | 2007-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101347922A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 冯永刚;张复雄;虞肖鹏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00;B24B55/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨垫的清洗方法，其特征在于：使用高于常温的去离子水对研磨垫的研磨表面进行清洗，去除研磨表面的残留杂质。
2.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：所述研磨垫的研磨表面是平滑的。
3.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：使用温度为23-40摄氏度的去离子水进行清洗。
4.如权利要求3所述的清洗方法，其特征在于：使用温度为40摄氏度的去离子水进行清洗步骤。
5.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：所述清洗方法在清洗机台上实施，该清洗机台包括有预热装置，其将所述去离子水加热到高于常温的某一温度。
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