[发明专利]化学机械研磨机台的维护方法无效
申请号: | 200710043874.5 | 申请日: | 2007-07-17 |
公开(公告)号: | CN101347920A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 陈肖科;张溢钢 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B37/04;B24B55/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 机台 维护 方法 | ||
技术领域
本发明涉及化学机械研磨工艺,尤其涉及化学机械研磨机台的维护方法。
背景技术
化学机械研磨机台每运作一段时间都需要执行一次常规维护,该维护过程包括依次执行的研磨消耗品更换与维护、新研磨垫磨合(new pad break-in)以及刷子磨合(brush break-in)。
新研磨垫磨合步骤在研磨模块上执行,采用研磨垫调节器(pad conditioner)在研磨垫的边缘和中心位置之间做往复运动来完成,该磨合步骤大约花费30分钟。完成研磨垫磨合后,再进行刷子磨合,刷子磨合步骤在机台的清洗模块上执行,采用数片(例如15片)表面覆盖有二氧化硅薄膜的挡片(oxide dummy)来执行,该刷子磨合步骤也要花费30分钟。
化学机械研磨垫的使用寿命通常只有1000pcs/34h(每34小时研磨1000片晶圆),而常规的维护过程就要占用4小时,大大降低了机台的使用效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种新的化学机械研磨机台的维护方法,以缩短常规维护所使用的时间,提高机台的使用效率。
为了解决上述技术问题,本发明采用了如下技术手段:一种化学机械研磨机台的维护方法,在完成研磨消耗品更换与维护后,同时执行研磨垫磨合和刷子磨合步骤。
进一步地,所述的化学机械研磨机台包括研磨模块和清洗模块,所述的研磨垫磨合步骤和刷子磨合步骤分别同时在研磨模块和清洗模块上执行。
进一步地,所述的研磨垫磨合和刷子磨合步骤需采用10~15片表面覆盖有二氧化硅薄膜的挡片。
进一步地,所述的化学机械研磨机台还包括晶圆传送模块,用于将所述的挡片分别传送至研磨模块和清洗模块上。
本发明通过将研磨垫磨合和刷子磨合步骤有机结合,可将磨合时间缩短一半,从而使每月花费在机台常规维护上的时间大大减少,提高了机台的使用效率。
具体实施方式
以下将对本发明的化学机械研磨机台的维护方法作进一步的详细描述。
当化学机械研磨机台工作一段时间后,需对其进行常规维护,本发明的维护方法首先进行研磨工具维护,该步骤与现有技术相同,故在此不作详述。
当研磨消耗品更换与维护完毕后,在化学机械研磨机台上同时执行新研磨垫磨合和刷子磨合步骤,该两个步骤分别在机台的研磨模块和清洗模块上执行。化学机洗研磨机台还包括一晶圆传送模块,每隔2~3分钟将一片表面覆盖有二氧化硅薄膜的挡片传送到研磨模块,并使其吸附于研磨头上,当研磨垫调节器在新研磨垫上执行2~3分钟研磨垫磨合后,再由传送模块将该挡片传输至清洗模块以执行刷子磨合步骤,从而同步完成研磨垫磨合和刷子磨合。整个过程持续约30分钟,需要使用10~15片挡片。
统计数据表明,采用本发明的方法可将磨合时间缩短一半,从而使每月花费在机台常规维护上的时间平均减少6小时,提高了0.83%的机台使用效率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710043874.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:长唇卷纸筒
- 下一篇:货船液压舱盖油泵遥控装置