[发明专利]一种光刻胶清洗剂无效
申请号: | 200710044790.3 | 申请日: | 2007-08-10 |
公开(公告)号: | CN101364056A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | 刘兵;彭洪修;史永涛;曾浩 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 洗剂 | ||
1.一种光刻胶清洗剂,其特征在于含有:氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。
2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~10%。
3.如权利要求2所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~3%。
4.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比20~98.8%。
5.如权利要求4所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比50~98.4%。
6.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季戊四醇的含量为质量百分比1~40%。
7.如权利要求6所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季戊四醇的含量为质量百分比1~30%。
8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.1~50%。
10.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.5~30%。
11.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的光刻胶清洗剂还含有缓蚀剂。
12.如权利要求11所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂为酚类、羧酸类、羧酸酯类、2-基苯并噻唑类、苯并三氮唑类、酸酐类、膦酸和膦酸酯类缓蚀剂中的一种或多种。
13.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的酚类为苯酚、1,2-二羟基苯酚、对羟基苯酚和连苯三酚中的一种或多种;所述的羧酸类为苯甲酸和/或对氨基苯甲酸;所述的羧酸酯类为对氨基苯甲酸甲酯、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸甲酯、没食子酸和没食子酸丙酯中的一种或多种;所述的苯并三氮唑类为苯并三氮唑钾盐;所述的酸酐类为乙酸酐、己酸酐、马来酸酐和聚马来酸酐中的一种或多种;所述的磷酸类为1,3-(羟乙基)-2,4,6-三膦酸。
14.如权利要求11所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比10%。
15.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比3%。
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