[发明专利]一种光刻胶清洗剂无效

专利信息
申请号: 200710044790.3 申请日: 2007-08-10
公开(公告)号: CN101364056A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 刘兵;彭洪修;史永涛;曾浩 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 代理人: 李佳铭
地址: 201203上海市浦东新区张江高科*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 洗剂
【权利要求书】:

1.一种光刻胶清洗剂,其特征在于含有:氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。

2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~10%。

3.如权利要求2所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~3%。

4.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比20~98.8%。

5.如权利要求4所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比50~98.4%。

6.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季戊四醇的含量为质量百分比1~40%。

7.如权利要求6所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季戊四醇的含量为质量百分比1~30%。

8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.1~50%。

10.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的醇胺的含量为质量百分比0.5~30%。

11.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的光刻胶清洗剂还含有缓蚀剂。

12.如权利要求11所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂为酚类、羧酸类、羧酸酯类、2-基苯并噻唑类、苯并三氮唑类、酸酐类、膦酸和膦酸酯类缓蚀剂中的一种或多种。

13.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的酚类为苯酚、1,2-二羟基苯酚、对羟基苯酚和连苯三酚中的一种或多种;所述的羧酸类为苯甲酸和/或对氨基苯甲酸;所述的羧酸酯类为对氨基苯甲酸甲酯、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸甲酯、没食子酸和没食子酸丙酯中的一种或多种;所述的苯并三氮唑类为苯并三氮唑钾盐;所述的酸酐类为乙酸酐、己酸酐、马来酸酐和聚马来酸酐中的一种或多种;所述的磷酸类为1,3-(羟乙基)-2,4,6-三膦酸。

14.如权利要求11所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比10%。

15.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比3%。

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