[发明专利]一种光刻胶清洗剂有效

专利信息
申请号: 200710045210.2 申请日: 2007-08-23
公开(公告)号: CN101373340A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 史永涛;彭洪修;曹惠英;刘兵;曾浩 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42;C11D7/34;C11D7/06;C11D7/26
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 代理人: 李佳铭
地址: 201203上海市浦东新区张江高科*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 洗剂
【权利要求书】:

1.一种光刻胶清洗剂,其特征在于,含有:季铵氢氧化物、聚羧酸类缓蚀剂、 芳基醇、二甲基亚砜和水,其中,所述的芳基醇选自苯甲醇、苯乙醇、二苯 甲醇、二苯乙醇、三苯甲醇、邻氨基苯甲醇、对氨基苯甲醇、邻氨基苯乙醇、 对氨基苯乙醇、甲基苯甲醇、甲基苯乙醇、二甲基苯甲醇、二甲基苯乙醇、 间甲氧基苯甲醇、对甲氧基苯甲醇、间甲氧基苯乙醇、对甲氧基苯乙醇、苄 氧基苯甲醇和二苄氧基苯甲醇中的一种或多种, 其中,所述的芳基醇的含量为质量百分比1~50%。

2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季铵氢氧化物的含 量为质量百分比0.1~10%。

3.如权利要求2所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季铵氢氧化物的含 量为质量百分比0.5~5%。

4.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的季铵氢氧化物选自 四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵和苄 基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的芳基醇的含量为质 量百分比5~30%。

6.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类缓蚀剂的 含量为质量百分比0.01~5%。

7.如权利要求6所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类缓蚀剂的 含量为质量百分比0.05~2.5%。

8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类缓蚀剂选 自聚丙烯酸及其共聚物、聚甲基丙烯酸及其共聚物、聚丙烯酸醇胺盐、聚甲 基丙烯酸醇胺盐、聚氧乙烯改性聚丙烯酸及其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基 丙烯酸及其衍生物、聚环氧琥珀酸和聚天冬氨酸中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的水的含量为质量百 分比0.1~40%。

10.如权利要求9所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的水的含量为质量百 分比0.5~20%。

11.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量 为质量百分比1~98.79%。

12.如权利要求11所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含 量为质量百分比50~90%。

13.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的光刻胶清洗剂还含 有极性有机共溶剂、表面活性剂和除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂中的一种或 多种。

14.如权利要求13所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的极性有机共溶剂 的含量为质量百分比0~50%;所述的表面活性剂的含量为质量百分比0~5%; 所述的除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0~10.0%。

15.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的极性有机共溶剂 的含量为质量百分比5~30%;所述的表面活性剂的含量为质量百分比 0.05~3%;所述的除聚羧酸类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0.1~5%。

16.如权利要求15所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的极性有机共溶剂 选自亚砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种;其中 烷基二醇单烷基醚中烷基二醇的碳原子数目为3~18。

17.如权利要求16所述的光刻胶清洗剂,其特征在于:所述的亚砜为二乙基亚 砜和/或甲乙基亚砜;所述的砜为甲基砜、乙基砜和环丁砜中的一种或多种; 所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮和1,3-二乙基-2-咪唑 烷酮中的一种或多种;所述的醇胺类化合物为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇 胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺和羟乙基乙二胺中的一种或多 种;所述的烷基二醇单烷基醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二 醇单丁醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和二丙二醇单 丁醚中的一种或多种。

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