[发明专利]液晶显示装置阵列基板的制造方法无效
申请号: | 200710047578.2 | 申请日: | 2007-10-30 |
公开(公告)号: | CN101424836A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | 常程 | 申请(专利权)人: | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/12;H01L21/027;H01L21/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 薛 琦 |
地址: | 201108上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示装置阵列基板的制造方法,该阵列基板包括一玻璃基板,形成于玻璃基板上的栅电极,覆盖于栅电极上的绝缘层,于绝缘层上沉积一层钝化层,一栅极扫描线形成于绝缘层中间区域上,光刻胶涂布于栅极扫描线上,其特征在于,其包括以下步骤:
步骤a,对栅极扫描线进行第一次湿刻;
步骤b,对钝化层进行硅岛/光刻胶干刻;
步骤c,对栅极扫描线进行第二次湿刻;
步骤d,对钝化层进行沟道干刻。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置阵列基板的制造方法,其特征在于,所述硅岛/光刻胶干刻步骤为一步式蚀刻方式。
3.如权利要求1所述的液晶显示装置阵列基板的制造方法,其特征在于,所述栅电极的材料使用金属铝。
4.如权利要求1所述的液晶显示装置阵列基板的制造方法,其特征在于,所述绝缘层由氮化硅组成。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置阵列基板的制造方法,其特征在于,所述钝化层的材料是非晶硅。
6.如权利要求1所述的液晶显示装置阵列基板的制造方法,其特征在于,所述栅极扫描线使用铬金属。
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